| 发明名称 |
RESIST AND PROCESS FOR FORMING PATTERNS USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR940011201(B1) |
申请公布日期 |
1994.11.26 |
| 申请号 |
KR19910010938 |
申请日期 |
1991.06.28 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD. |
发明人 |
ABE, NAOMICHI;NOZAKI, KOJI |
| 分类号 |
G03F7/039;G03F7/36;(IPC1-7):G03F7/039;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/039 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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