| 主权项 |
1.一种用来制造相当于最大设计准则为0.5微米之外观尺寸的元件之方法,其中至少包含一个光学制版成像步骤,该步骤包含以一电气扫瞄的带电粒子束照射一光罩之许多成像区域,使得影像讯息能经由二种光罩成像区域而加在该光束上,差异在关于加在该光束上之散射程度,因而产生一投影影像于制造中之元件上,投影方式乃是利用含有一投影透镜的透镜系统来达成,前述粒子由粒子源放射出来,并被加速在某一速度,造成足以满足设计准则需求的德布洛依波长较値,供带有图案讯息之辐射穿过之路径含有一〝背焦平面滤波器〞,界定于背焦平面上或一些透镜系统上的等效共轭平面上,该滤波器包含界定该滤波器之穿透部份的孔,此方法之特征为在电气扫瞄期间之该光束将相对于该投影透镜而大致维持于其光轴上,方式是藉着该透镜之形状的对应变化,其中滤波器包含至少两种尺寸和间隔的孔,以便维持所需之影像对比,成像步骤经由至少二个此种孔来进行投影。2.如申请专利范围第1项之方法,其中该带电粒子主要由电子所组成,而其中之投影透镜则为一可变光轴浸没式透镜。3.如申请专利范围第2项之方法,其中之电子乃是以振幅大小在50-200仟伏特范围之内的加速电场所加速的。4.如申请专利范围第1项之方法,其中该滤波器包含至少一百个孔。5.如申请专利范围第1项之方法,其中孔在以垂直光束之角度看时,其横截面均大致为圆形,其最小半径等于系统之瞳孔大小,而其中造成对比损失K之间隔的最大値则为根据以下关系式所得之百分之十:其中:d=孔径大小(在此例中,为圆孔之直径)C孔之间距孔中心至孔中心的间隔6.如申请专利范围第5项之方法,其中光罩和滤波器在制程中,均在垂直光束之方向上进行实质上的相对移动。7.如申请专利范围第6项之方法,其中之实质上的移动包含有光束进行电子扫瞄时的实质扫瞄动作。8.如申请专利范围第6项之方法,其中之实质移动包括实质上之步进动作-该步进动作被安置在电子式扫瞄作用之间。9.如申请专利范围第7项之方法,其中之实质扫瞄动作主要为非方向性的,且其中之实质移动,包含大致与该实质扫瞄方向大致垂直的方向上之实质步进动作。10.如申请专利范围第1项之方法,其中提供有某些装置,可改变至少一个额外透镜之光轴的实际位置。11.如申请专利范围第1项之方法,其中该光学制版成像步骤包含顺序地照明许多元件的区块。12.如申请专利范围第11项之方法,其中该光罩是由循序间隔的区块所组成的,这些区块在位置上对应于元件之区块而排列。13.如申请专利范围第11项之方法,其中至少有一些光罩之区块,构成某连续关系之光罩图案的连续区块。14.如申请专利范围第12项之方法,其中之影像资料利用下法加于该光束上,此法包含至少重覆一次之对该光罩之某部份的重覆照明,使得至少有些元件之区块是被重覆照明的。15.如申请专利范围第1项之方法,其中对于所提及的许多元件之区块的照明动作是暂时循序进行的。16.如申请专利范围第1项之方法,其中对于所提及的元件之区块的照明动作是暂时性非循序进行的。17.一种由申请专利范围第1至16项中任一项之方法所制造的装置。图1是一示意图,显示参考资料中用来讨论设计标准之内容,特别是与孔径尺寸和间隔对于对比之影响有关之部份。图2是一示意图,指出正在进行之制程,特别注意到视野以及蕴涵其中之电子式和机械式扫瞄之能力。图3是一正面仰视示意图,显示一个采用可变光轴浸入 |
