发明名称 用于低温液化气体之清洁的固定装置
摘要 一种装置,可固定至一个具有要加以清洁之表面的作业器具上,以供自一物质制造液化气体来清洁该表面,其包含有一凸缘,可供固定室该具有要加以清洁之表面的作业器具上。一喷嘴固定至该凸缘上,以供接收该物质。此喷嘴至少具有一个出口,以供该物质自其间通过,而将该物质自第一压力膨胀至较第一压力为低的第二压力,以使该物质至少有相当一部份固化而形成液化气体来清洁该表面。另设有凝结防止装置,以防止凝结物形成于此装置之表面及要加以清洁之表面上,亦设有污染防止装置,以防止污染物在自该表面去除后再次污染之。
申请公布号 TW257698 申请公布日期 1995.09.21
申请号 TW083110521 申请日期 1994.11.14
申请人 万国商业机器公司 发明人 吉拉德.马丁.伟伯;吴任旺;威廉.亚伯特.卡维利瑞
分类号 B08B5/00 主分类号 B08B5/00
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1. 一种可固定至一个具有要加以清洁之表面的作业器具上,以供自一物质制造液化气体来清洁该表面的装置,包含有:一凸缘,可供固定至该具有要加以清洁之表面的作业器具上;一喷嘴,固定至该凸缘上,以供接收该物质,该喷嘴至少具有一个出口,以供该物质自其间通过,而将该物质自第一压力膨胀至较第一压力为低的第二压力,以使该物质至少有相当一部份固化而形成液化气体来清洁该表面;凝结防止装置,用以防止凝结物形成于此装置之表面及要加以清洁之表面上;以及污染防止装置,用以防止污染物在自该表面去除后再次污染之。2. 根据申请专利范围第1项之装置,其中该凝结防止装置及该污染防止装置可在该要加以清洁之作业器具内形成正压力。3. 根据申请专利范围第1项之装置,其中该凝结防止装置包含有清除装置。4. 根据申请专利范围第3项之装置,其中该清除装置包含有一清除埠及一清除气体源。5. 根据申请专利范围第4项之装置,其中该清除气体源包含有一氮气源。6. 根据申请专利范围第1项之装置,其中该污染防止装置包含有一出口埠及一泵浦。7. 根据申请专利范围第1项之装置,进一步包含有压力调节装置,以调整该要加以清洁之作业器具内的压力。8.根据申请专利范围第1项之装置,进一步包含有移动装置,其系连接至该喷嘴上,以供移动该喷嘴。9. 根据申请专利范围第8项之装置,其中该移动装置包含有一弹性供应管线,系设置成可将该物质输送至该喷嘴上。10.根据申请专利范围第8项之装置,其中该移动装置包含有旋转式接头。11. 根据申请专利范围第8项之装置,其中该移动装置包含有一进出开孔,设置在该凸缘上。12. 根据申请专利范围第11项之装置,进一步包含有至少一只手套,穿入至进出开孔内,可供使用者之手藉之而控制该移动装置。13.根据申请专利范围第1项之装置,进一步包含有一围壁,设置在一 盖部和该凸缘之间。14. 根据申请专利范围第13项之装置,其中该凝结防止装置及该污染防止装置可在该围壁及该要加以清洁之作业器具内形成正压力。15. 根据申请专利范围第13项之装置,其中该围壁包含有透明材料。16. 根据申请专利范围第13项之装置,其中该围壁包含有可移动该喷嘴的移动装置。17. 根据申请专利范围第16项之装置,其中该移动装置包含有一弹性供应管线,设置在该围壁内,该弹性供应管线具有一末端,可供用以接收该物质,并具有另一末端可供该喷嘴结合至其上。18. 根据申请专利范围第17项之装置,进一步包含有一阀,设置在该弹性供应管线上,以控制该物质之输送至该喷嘴上。19. 根据申请专利范围第16项之装置,其中该移动装置包含有一旋转式接头。20. 根据申请专利范围第16项之装置,其中该移动装置包含有一进出开孔,设置在该围壁上。21. 根据申请专利范围第20项之装置,进一步包含有至少一只手套,经由该进出开孔穿第至围壁内,以供使用者之手藉之而控制该移动装置。22. 根据申请专利范围第13项之装置,其中该喷嘴是设置在该围壁内。23. 根据申请专利范围第13项之装置,其中该喷嘴延伸超出该凸缘,以穿入至该要加以清洁之作业器具内。24.根据申请专利范围第13项之装置,其中该盖部包含有一清除埠及 一出口埠。25. 根据申请专利范围第1项之装置,其中该喷嘴是可替换者。图示简单说明:图1显示出一液化气体清洁装置的整体示意图。图2是本发明热交换器的部份剖面图。图3是图2之热交换器一部份的剖面图。图4是图2中之热交换器内所使用之绝缘装置的剖面图。图5是根据本发明用以清洁表面用之装置之一具体实例的剖面图。图6是本发明之喷嘴尖端的前视部份剖面图。图7A-B是图6之喷嘴尖端的不同视图。图8是根据本发明用以清洁表面用之装置之另一具体实例的剖面图。图9是图8之装置的顶视图。图10是图8之装置的底视图。图11是本发明之喷嘴尖端的剖面图。图12A-C是可使用在本发明之不同喷嘴的范例。图13是根据本发明用以清洁表面用之装置之再另一具体实例的剖面图。
地址 美国