发明名称 曝光装置
摘要 本发明系就彩色阴极射线管之面板内面曝光萤光屏幕之曝光装置,在面板2之内面涂覆感光层26,将此面板固定于固定台17之上。光线19自光源部18放射至对应于屏蔽罩1开孔之已硬化成图案,此光线经由补正光学系统之构件30以近似于电子束轨迹之光线轨迹入射至投射透镜系统20。通过投射透镜系统20之光线,经由屏蔽罩之开孔入射至感光层26。补正光学构件30,在对应于入射面处具倾斜光出射面,藉驱动元件之功能,此补正光学构件以自光源部朝向感光层放射之光线之光轴28为中心轴进行回转。因此光源部18之像经由回转位移而形成接近纯圆之屏蔽罩开孔之图案于感光层上。此结果使得足以制造电子束射击点( landing )宽容度大而易于调整色纯度之彩色阴极射线管。
申请公布号 TW260800 申请公布日期 1995.10.21
申请号 TW084103073 申请日期 1995.03.30
申请人 东芝股份有限公司 发明人 冈田忠典;桑原雄二
分类号 H01J29/18 主分类号 H01J29/18
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼;林敏生 台北巿南京东路二段一二五号七楼伟成第一大楼
主权项 1. 一种曝光装置,系属于:在彩色阴极射线管面板中具配置有对应于屏蔽罩开孔图案之面板内面涂覆感光层并曝光以制成萤光屏幕之曝光装置,系包含:固定彩色阴极射线管手段,及发射光线在具对应于屏蔽罩开孔之对向配置硬化成图案之面板内面感光层上之光源部,及包含补正光学构件之光学系统,其系在此光源部及屏蔽罩间配置上述来自光源部朝向感光层放射而通过之光线之补正光学构件,光线由入射面入射且由出射面射出,射出面及入射面呈倾斜配置,入射于入射面上不同入射位置之光线,依不同之光程差通过补正光学构件而自射出面射出,及此补正光学构件以自上述光源部朝向感光层发射之光线之光轴为中心轴之回转驱动部。2. 如申请专利范围第1项之曝光装置,其中的补正光学构件之光射出面系以硬化成感光性构件使具对应于屏蔽罩开孔之图案之长轴与短轴比为基准而设定制成具有倾斜角之平面。3. 如申请专利范围第1项之曝光装置,其中的补正光学构件之光射出面系以硬化成感光性构件使具对应于屏蔽罩开孔之图案之长轴与短轴比为基准而设定制成具有倾斜曲面之平面。4. 如申请专利范围第1项之曝光装置,其中的光源部系包含与前述光轴呈直角而发射出延长光线之延长光源及限制来自延长光源之光线通过之延长光狭缝(slit)。5.如申请专利范围第1项之曝光装置,其中前述光学系统系包含来自光源之光线沿着所定之轨迹朝向感光层投射之投射透镜系统及补正感光层上光强度分布之滤光膜。图示简单说明:图1系彩色阴极射线管概略构造示意剖面图。图2A及2B系各各点状萤光体层所形成之平面图及剖面图。图3A及3B系在各各黑色矩阵状光吸收层之矩阵孔中设计有嵌入点状萤光屏幕之平面图及剖面图。图4A至4G系为说明在各种黑色矩阵状光吸收层之矩阵孔中设计有嵌入点状萤光屏幕之各制程步骤示意剖面图。图5系一般在彩色阴极射线管面盘上曝光萤光屏幕而形成萤光屏幕之曝光装置之构造示意概略剖面图。图6系本发明之一实例中相关于在彩色阴极射线管面盘上曝光萤光屏幕而形成萤光屏幕之曝光装置之构造示意剖面图。图7系通过图6所示曝光装置中之补正光学构件之光线轨道变化说明图。图8系在图6所示之曝光装置中在面板内面供作形成萤光屏幕之感光性构件上所投影之屏蔽罩开孔图案之移动说明图。图9系在图6所示之曝光装置中在面板内面供作形成萤光屏幕之感光性构件上所投影之屏蔽罩开孔图案之描绘轨道说明图。图10系在图6所示之曝光装置中具有倾斜曲面之补正光学
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