| 主权项 |
1. 一种使用当受到适当波长照射时易受影响而改变折射率的波导材料而制备聚合物光波导材料的方法,其步骤包括提供具一选择性地遮蔽该波导材料的部份区域的屏蔽的波导材料,并经由该屏蔽照射波导材料使波导材料未遮蔽部份的折射率改变,其特征为该屏蔽是已显影的光阻,其对照射波长并非完全透明。2. 一种在聚合物光学波导上定义横向波导途径样式的制备方法,其包含下列步骤:(a) 提供具有层状结构的波导,该结构包括夹在两层折射率较导层低的挠曲层之间(2,4)的聚合物导层(3);(b) 在该层状波导上加一层光阻层(11);(c) 经由定义所希望样式的屏蔽(7)对光阻曝光;(d) 显影该光阻以产生敞开处(12),其定义层状波导遮蔽和未遮蔽的样式;(e) 将此依清楚样式遮蔽的波导以能造成导层聚合物折射率改变的波长照射;该已显影光阻对照射的波长并非完全透明。3. 根据申请专利范围第1或2项的方法,其特征为该已显影光阻系实质上吸收所使用的波长。4. 根据申请专利范围第3项的方法,其特征为该光阻包含层吸收该适当波长能量之染料分子。5. 于平面光学波导定义波导途径之方法,其系经由以一特定波长或于特定范围之波长之刺激作用来刺激该波导,其中系使用对该波长或波长范围之光实质上不透明之光阻。图示简单说明:图1表示先前此项技艺通用的制程 |
