发明名称 SECO PROCESS
摘要 Die Erfindung betrifft ein Tunneleffekt-Bauelement bestehend aus mindestens zwei durch einen gerichteten Auftragungsprozess auf einem Substrat (1) ausgebildeten leitfähigen Bereichen (3a, 3b) und einem räumlich dazwischen angeordneten eine Tunnelbarriere bildenden isolierenden Bereich (2), wobei der dadurch ausgebildete mindestens eine Tunnelkontakt einen Tunnelwiderstand aufweist, der sehr viel grösser ist als der Quantenwiderstand Rq = h/e<2>. Zur Ausbildung eines Bauelementes, welches auch bei technisch realisierbaren Temperaturen das gewünschte Einzelelektronenverhalten zeigt und gleichwohl mit vertretbarem Herstellungsaufwand realisierbar ist, ist vorgesehen, dass auf einen auf der Oberfläche eines Substrats (1) ausgebildeten nichtleitenden Bereich (2) die Aufbringung einer leitfähigen Schicht (3) erfolgt, wobei mindestens zwei in Auftragungsrichtung zueinander versetzte leitfähige Teilbereiche (3a, 3b) ausgebildet werden, die durch einen im wesentlichen in Aufbringungsrichtung verlaufenden vom leitfähigen Aufbringungsmaterial ausgesparten Abschnitt (2a) gegeneinander isoliert sind.
申请公布号 WO9616448(A1) 申请公布日期 1996.05.30
申请号 WO1995EP04565 申请日期 1995.11.20
申请人 AMO GMBH;ALTMEYER, STEFAN;SPANGENBERG, BERND;KURZ, HEINRICH 发明人 ALTMEYER, STEFAN;SPANGENBERG, BERND;KURZ, HEINRICH
分类号 H01L29/66;H01L45/00;(IPC1-7):H01L45/00 主分类号 H01L29/66
代理机构 代理人
主权项
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