发明名称 于无电制程中在玻璃上提供金属图样之方法
摘要 可于无电制程中在玻璃基板(1)上形成金属图案(15),系藉矽烷层(3)改质基板,利用雷射或紫外线-臭氧处理局部移除该层,并于经聚合物稳定之钯溶胶中选择性地使残留之矽烷层成核。不需使用光阻抑有机溶剂。此法非常适合用于LCD之非活性板,或其它平面彩色显示器之面板,例如平面阴极射线管,上之黑纹的制造。
申请公布号 TW280837 申请公布日期 1996.07.11
申请号 TW082103481 申请日期 1993.05.04
申请人 飞利浦电子股份有限公司 发明人 尼柯拉斯.P.维拉德;伊佛.G.J.坎普斯;安德利斯.M.T.P.凡.德.普田;拉伯托斯.G.J.霍京克
分类号 C23C18/54 主分类号 C23C18/54
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1. 一种于无电制程中在玻璃基板上形成金属图案之方法,其中系于基板上形成一层矽烷层,然后依图案形状曝露于锕辐射下,而后让基板与金属盐水溶液接触,藉此于基板未曝光区域上形成金属图案,其特征为矽烷层系以烷氧基胺基矽烷之水溶液形成,以及在图案化照射时,将矽烷层自基板上照射区域移除,之后让基板与Pd之胶体分散液水溶液接触,其中该溶液系经选自包括聚乙烯醇或聚乙烯咯酮之聚合物稳定化,随后于无电金属-盐溶液中,即:无电镍浴,将基板之未照射区域加以金属化,因而形成镍的金属图案。2. 根据申请专利范围第1项之方法,其中矽烷系选自包括3-胺基丙基三乙氧矽烷及N-(2-胺基乙基)-3-胺基丙基三乙氧矽烷。3. 根据申请专利范围第1项之方法,其中图案化照射系藉紫外线-臭氧处理及于基板上之光罩进行之。4. 一种使用根据申请专利范围第1项之方法于液晶显示器装置之非活性化板上制造金属黑纹之方法,系藉紫外线-臭氧处理进行图案化照射,同时在非活性板上使用光罩,该黑纹系藉无电镍浴液形成。图示简单说明:图1图示说明依照本发明之方法的制程步骤,玻璃测试基
地址 荷兰
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