| 主权项 |
1. 一平面光学波导,其包含(a) 基片,(b) 至少一个光学透明心蕊区域与基片形成平面结构,(c) 至少一个平面光学元件形成于该光学透明心蕊材料之区域中,在其中至少一个平面光学元件包含至少一个光学功能界面以及空腔于所提及光学透明心蕊材料区域中,该至少一个光学功能界面是靠近于空腔处,该空腔含有空气或被抽为真空使得该空腔折射率实际上与所提及至少一光学透明心蕊材料区域之折射率不相同,以及(d) 一外包层材料之区域涂覆在至少一个光学透明心蕊材料之区域及至少一个平面光学元件上。2. 依据申请专利范围第1项之平面光学波导,其中所提及至少一个平面光学元件为透镜。3. 依据申请专利范围第1项之平面光学波导,其中所提及至少一个平面光学元件为微棱镜。4. 依据申请专利范围第1项之平面光学波导,其中所提及至少一个平面光学元件为光栅。5. 依据申请专利范围第1项之平面光学波导,其中所提及平面光学波导为MN耦合器,其中M及N为整数。6. 依据申请专利范围第1项之平面光学波导,其中所提及光学透明心蕊区域由二氧化矽或含掺杂剂之二氧化矽玻璃所构成。7. 依据申请专利范围第1项之平面光学波导,其中至少一个光学透明心蕊材料区域之折射率与至少一个平面光学元件之折射率两者间差値大于0.04。8. 依据申请专利范围第7项之平面光学波导,其中至少一个光学透明心蕊材料区域之折射率与至少一个平面光学元件之折射率两者间差値在0.04至2.0范围内。9. 一平面光学波导,其包含(a) 基片,(b) 至少一个光学透明心蕊区域与基片形成平面结构,(c) 至少一个平面光学元件形成于该光学透明心蕊材料之区域中,在其中平面光学元件主要特征为其折射率实质上大于光学透明心蕊材料区域之折射率。(d) 一个外包层材料区域涂覆于至少一个光学透明心蕊材料区域以及至少一个平面光学元件。10. 依据申请专利范围第9项之平面光学波导,其中至少一个平面光学元件设计将使得该平面光学波导之光能作为一个MxN耦合器,其中M以及N为整数。11. 依据申请专利范围第9项之平面光学波导,其中至少一个光学透明心蕊材料区域之折射率与至少一个平面光学元件之折射率两者间差値大于0.04。12. 依据申请专利范围第11项之平面光学波导,其中至少一个光学透明心蕊材料区域之折射率与至少一个平面光学元件之折射率两者间差値在0.04至2.0范围内。13.依据申请专利范围第9项之平面光学波导,其中所提及光学透明心蕊区域由二氧化矽或含掺杂剂之二氧化矽材料所构成。14. 依据申请专利范围第9项之平面光学波导,其中所提及平面光学元件为透镜。15. 一平面光学波导,其包含(a) 基片,(b) 至少一个光学透明心蕊区域与基片形成平面结构,(c) 至少一个平面光学元件形成于该光学透明心蕊材料之区域中,在其中平面光学元件特征为折射率实质上与光学透明心蕊材料区域之折射率不相同,在其中空腔包含掺杂矽石之玻璃或其他高折射率材料例如为氮化矽,氧氮化矽,或非晶质矽使得该平面光学元件之折射率实质上大于1.5以及至少一个光学透明心蕊材料区域之折射率实质上小于1.5。图示简单说明:图1为依据本创作制造出平面光学波导之断面图。图2显示出依据本创作制造出之12耦合器。图3显示出依据本创作制造出之33耦合器。图4a及4b显示出依据本创作制造出之14耦合器并具有能作90@bs3转弯之棱镜。图5显示出依据本创作制造出之12分裂器。图6a-c显示出依据本创作制造出之14分裂器。 |
