| 主权项 |
1. 可以一并乾燥处理受水潮湿的复数片基板的基板装置,它具有:能够收容具有比水的沸点还低的沸点之有机溶媒的处理槽;与能将有机溶媒供给到这个处理槽的供给手段;与浸渍在前述处理槽内,而且具备内部有热媒体流通的热交换管,以便使热媒体与有机溶媒热交换,而使有机溶媒的蒸汽发生的第1热交换器;和与设在前述处理槽的上部或上方,而且具备内部有冷媒流通的热交换管,以便使冷媒与有机溶媒热交换,而使有机溶媒的蒸汽凝缩的第2热交换器。2. 如申请专利范围第1项所述的装置中,更具有:能够可变调整流通于第1热交换管内的热媒体的流量之流量可变调整机构;与能够检出有机溶媒的蒸汽发生领域的温度之最少一个温度感知器;和与能够根据这个温度感知器所检出的讯号控制流量可变调整机构的控制手段。3. 如申请专利范围第2项所述的装置中,控制手段是根据由温度感知器检出的检出讯号控制流量可变调整机构,使热媒体的流量增减,以便使有机溶媒的蒸汽上昇或下降。4. 如申请专利范围第2项所述的装置中,流量可变机构具有能够改变流通于第1热交换管内的热媒体的流量的马达驱动式的球阀。5. 如申请专利范围第1项所述的装置中,处理对象的基板是半导体晶片或LCD用玻璃基板,有机溶媒则使用异丙醇。6. 如申请专利范围第1项所述的装置中,热媒体是使用饱和水蒸汽或过饱和水蒸汽。7. 如申请专利范围第1项所述的装置中,更具有:在使有机溶媒的蒸汽发生领域的上方,使附着在基板上的有机溶媒强制地挥发的手段。8. 如申请专利范围第1项所述的装置中,处理槽是石英玻璃制或不锈钢制。9. 如申请专利范围第1项所述的装置中,第1热交换管是石英玻璃制或不锈钢制。10. 如申请专利范围第1项所述的装置中,第2热交换管是石英玻璃制或不锈钢制。11. 如申请专利范围第1项所述的装置中,更具有:能够将被第2热交换器所凝缩的有机溶媒送回到处理槽的下部的下水管。12. 如申请专利范围第1项所述的装置中,更具有:设置成不被处理槽内的有机溶媒浸渍,而能接受从基板除去的水份的受皿,与在这个受皿开口而能将除去的水份排出到外部的排出通路。13. 如申请专利范围第1项所述的装置中,更具有:能够将有机溶媒的蒸汽发生领域上方的领域排气的排气手段。14. 如申请专利范围第1项所述的装置中,更具有:在有机溶媒的蒸汽发生领域与其上方领域之间,使基板移动的搬送手段。图示简单说明:第一图所示的是与本发明的实施例有关之全部基板乾燥装置的断面块状图。第二图所示的是基板乾燥装置的主要部份的断面块状图。第三图所示的是以Ⅲ-Ⅲ线切断的基板乾燥装置的断面图。第四图所示的是基板乾燥方法的流程图。第五图所示的是在IPA加热系统中的动作的流程图。第六-一图至第六-五图是分别为了说明IPA加热系统的动作而用来表示各个讯号与阀的开度关系的时序表。第七-一图及第七-二图是分别为了说明IPA加热控制而 |
