发明名称 单排式成膜装置
摘要 本发明系关于一种单排式成膜装置,其为,经过较多之成膜处理而完成成膜之情形时亦不会使装置徒然变长者。将两枚基板1之板面保持成为对搬运方向平行之载体3,系由搬运系统依次搬运至沿着多角形状之搬运路30而配置之复数个真空室2内。基板1由配置于构成成膜处理室之真空室2内之处理装置4而连续地实行成膜处理。呈多角形状之搬运路30之转角部分之真空室内有配置回转机构,以便将载体3回转所定角度而使载体3能够朝自下一个搬运方向者。
申请公布号 TW311105 申请公布日期 1997.07.21
申请号 TW084113505 申请日期 1995.12.18
申请人 安内华股份有限公司 发明人 有贺芳树;神仓洋
分类号 B05C1/02 主分类号 B05C1/02
代理机构 代理人 赖经臣 台北巿南京东路三段三四六号白宫企业大楼一一一二室
主权项 1.一种单排式成膜装置(in-line type film depositionsystem),其特征为:载置基板的载体(carrier)移动之搬运路为呈环状线(loopline),沿着环状线之该搬运路,有排列复数个真空室,在该等真空室当中,处理基板之真空室及位于该搬运路之转角之真空室内,有配置改变载体方向之回转机构者。2.如申请专利范围第1项之单排式成膜装置,其中,搬入基板之真空室与搬出基板之真空室为邻接者。3.如申请专利范围第1项之单排式成膜装置,其中,回转机构系由保持包含与该载体磁性结合之磁性结合辊子(roller)之驱动机构之保持体,及回转该保持体之马达(motor)所构成者。4.如申请专利范围第1项之单排式成膜装置,其中,载体系将基板载置成为基板之板面对搬运方向成平行者。5.如申请专利范围第4项之单排式成膜装置,其中,载体为至少载置2枚之基板者。6.如申请专利范围第5项之单排式成膜装置,其中,载体系由磁性结合于该载体之磁性结合辊子,及回转该磁性结合辊子之回转机构所成之搬送系统所移动者。7.如申请专利范围第1项之单排式成膜装置,其中,处理基板之真空室内,配置处理装置成为对向于所搬运之基板之板面者。8.如申请专利范围第7项之单排式成膜装置,其中,处理基板之真空室内,将搬运路夹于中间,对向配置两个处理装置者。9.如申请专利范围第7项之单排式成膜装置,其中,处理装置系实行喷溅涂覆法,蚀刻法(etching),基板之加热或基板之冷却等者。10.如申请专利范围第1项之单排式成膜装置,其中,搬入基板之真空室与搬出基板之真空室内,分别配置有真空用搬运机器人(robot)者。11.如申请专利范围第1项之单排式成膜装置,其中,用一个真空室实行基板之搬入与搬出者。12.如申请专利范围第1项之单排式成膜装置,其中,在沿着搬运路而排列之真空室当中,有在真空室下方形成有能使作业员通过之空间之真空室者。13.如申请专利范围第1项之单排式成膜装置,其中,该搬运路系呈四角形者。图示简单说明:图一(a)为本发明较佳具体例之单排式成膜装置之平面概略图。图一(b)为本发明较佳具体例之单排式成膜装置之外观图。图二为图一之单排式成膜装置之载体及搬运系统之正面概略图。图三为图二之载体之线A-A之平面剖面概略图。图四为图一之单排式成膜装置之载体,搬运系统及处理装置之侧面概略图。图五为图一之单排式成膜装置之搬运系统之平面概略图。图六为图一之单排式成膜装置之回转机构之侧面概略图。图七为图一之单排式成膜装置之侧面外观图。图八为本发明其他实施例之单排式成膜装置之平面概略图。图九为先前之单排式成膜装置之平面概略图。图十(a)为搬运机器人臂部之爪之侧面剖面图。图十(b)为搬运机器人臂部之爪之上面图。
地址 日本