| 主权项 |
1.一种自攻内植齿,包括:一圆柱形本体,具有一末端及一齿龈端以及二端部间之螺纹外表面,螺纹外表面用于固定内植齿于活骨之一预钻孔之壁,及螺纹外表面在本体末端向内斜缩向圆柱形本体之纵轴线;本体具有设制在末端螺纹表面并延伸通迥向末端逐渐缩小半径之多转螺纹,以在螺纹之被各凹隙中断之每一处形成一组顺序自攻切割缘,使各切割缘之螺纹尖峰逐渐移近轴线及沿螺纹向末端前进;及延伸于相邻凹隙间之每一经修改螺纹段具有一大半径及一小半径,大及小半径在经修改螺纹段之前端与后端之间环绕轴线逐渐缩小。2.根据申请专利范围第1项之自攻内植齿,内植齿配合一骨,骨具有环绕其圆柱形轴线之实质上恒定半径之一预钻圆柱形孔,及孔之半径实质上不小于内植齿末端之螺纹尖峰半径。3.一种自攻内植齿,包括:一圆柱形本体,具有用以将内植齿固定于骨中一预钻孔之壁之螺纹外表面;本体具有设制于其一端之螺纹表面并纵向延伸通过多转螺纹之多条纵向凹隙,以在螺纹之被各凹隙中断之每一处形成一自攻切割缘;本体之螺纹表面依纵向沿至少一部分该等凹隙斜缩,故沿斜缩区域中螺纹之各顺序切割缘具有逐渐改变半径;及延伸于相邻凹隙间之每一经修改螺纹段具有一节距半径,节距半径在经修改螺纹段之前端与后端之间环绕内植齿纵轴线逐渐缩小。4.根据申请专利范围第3项之自攻内植齿,其中该螺纹表面之斜缩部份位于内植齿之一端,故内植齿之最小直径位于内植齿之该端部,及当螺纹延伸离开该内植齿端部时,沿螺纹之各顺序切割缘之半径逐渐增加。5.根据申请专利范围第3项之自攻内植齿,其中延伸于一对相邻凹隙间之经修改螺纹段之其前端与后端间之大及小直径逐渐缩减。6.根据申请专利范围第3项之自攻内植齿,其中每一凹隙依与内植齿之纵轴线平行之方向延伸。7.根据申请专利范围第3项之自攻内植齿,其中该节距半径在切割缘后立即缩减。8.根据申请专利范围第3项之自攻内植齿,其中每一凹隙延伸通过内植齿之一端部。9.根据申请专利范围第3项之自攻内植齿,其中每一经修改螺纹段之曲率半径小于骨中预钻孔之壁之曲率半径。10.根据申请专利范围第3项之自攻内植齿,内植齿系用钛制成。11.一种自攻内植齿,包括:一圆柱形本体,具有用以固定内植齿于骨中一预钻孔之壁之螺纹外表面;本体具有设制在其一端之螺纹表面上并纵向延伸通过多转螺纹之多条纵向凹隙,以在螺纹之被每一凹隙中断处形成一自攻切割缘,本体之螺纹表面依纵向沿各凹隙之至少一部分斜缩,故沿斜缩区域中螺纹之各顺序切割缘具有逐渐改变之半径;及延伸于一对相邻凹隙间之每一经修改螺纹段之节距半径在其前端与后端之间逐渐缩减。12.根据申请专利范围第11项之自攻内植齿,其中该等凹隙间各经修改螺纹段之大小及小半径均遵循该纵向斜度。13.根据申请专利范围第11项之自攻内植齿,其中该节距半径在切割缘后立即缩减。14.根据申请专利范围第11项之自攻内植齿,其中每一凹隙延伸通过内植齿之一端部。15.根据申请专利范围第11项之自攻内植齿,其中每一经修改螺纹段之曲率半径小于骨中预钻孔之壁之曲率半径。16.一种自攻内植齿,包括:一圆柱形本体,具有用以固定内植齿于骨中一预钻孔之壁之螺纹外表面;本体具有设制在其一端之螺纹表面上并纵向通过多转螺纹之多条纵向凹隙,以在螺纹之被每一凹隙中断处形成一自攻切割缘;及延伸于一对相邻凹隙间之每一经修改螺纹段之节距在其前端与后端之间逐渐缩减。17.根据申请专利范围第16项之自攻内植齿,其中该本体之螺纹表面依纵向沿该等凹隙之至少一部份斜缩,故沿斜缩区域中螺纹之各顺序切割缘具有逐渐改变之半径。18.根据申请专利范围第17项之自攻内植齿,其中该等凹隙间各经修改螺纹段之大及小半径均遵循该纵向斜度。19.根据申请专利范围第18项之自攻内植齿,其中该小半径之斜缩度大于该大半径。20.根据申请专利范围第16项之自攻内植齿,其中每一凹隙依与内植齿之纵轴线平行之方向延伸。21.根据申请专利范围第16项之自攻内植齿,其中每一凹隙延伸通过内植齿之一端部。22.根据申请专利范围第16项之自攻内植齿,其中该等凹隙与内植齿之末端略成间隙。23.根据申请专利范围第16项之自攻内植齿,其中该等凹隙环绕内植齿之纵轴线成对称式间隔。24.根据申请专利范围第16项之自攻内植齿,其中构成每一切割缘之凹隙壁自切割缘就与连接于切割缘之内植齿之外表角成一锐角向内延伸。25.根据申请专利范围第16项之自攻内植齿,其中构成每一切割缘之凹隙壁与螺纹之螺旋路径成一锐角纵向延伸通过螺纹。26.根据申请专利范围第16项之自攻内植齿,其中每一经修改螺纹段之曲率半径小于骨中预钻孔之壁之曲率半径。27.根据申请专利范围第16项之自攻内植齿,内植齿系用钛制成。28.一种自攻内植齿,包括:一圆柱形本体,具有用以固定内植齿于骨中一预钻孔之壁之螺纹外表面;及本体具有设制在螺纹表面上并纵向延伸通过多转螺纹后之多条纵向凹隙,以构成各具有自本体纵轴线量计之一节距半径之多条经修改螺纹段,每一经修改螺纹段具有一前端及一后端,前端具有自攻切割缘,及该等经修改螺纹段具有自前端至后端之逐渐缩减节距半径。29.根据申请专利范围第28项之自攻内植齿,其中该本体之螺纹外表面依纵向沿该等凹隙之至少一部斜缩,及斜缩区域中之该等顺序切割缘具有逐渐改变半径。30.根据申请专利范围第28项之自攻内植齿,其中该等凹隙间各经修螺纹段之大及小半径均遵循该纵向斜度。31.根据申请专利范围第28项之自攻内植齿,其中每一凹隙延伸通过内植齿之一端部。32.根据申请专利范围第28项之自攻内植齿,其中该节距半径在切割缘后立即缩减。33.根据申请专利范围第30项之自攻内植齿,其中该小半径之斜缩度大于该大半径。34.一种自攻内植齿,用以在接纳内植齿之活骨内一孔中形成内螺纹,内植齿包括:一圆柱形本体,具有用以固定内植齿于该孔之螺纹外表面;及本体具有一斜缩螺纹端部,此端部具有与各经修改螺纹段交替之多条切割缘,各经修改螺纹段具有在各切割缘后之离隙装置,以当内植齿插入孔内时,使各经修改螺纹段之大及小半径尺度向内移离孔之相对表面。35.根据申请专利范围第34项之自攻内植齿,其中该离隙装置紧随各切割缘之后。36.根据申请专利范围第34项之自攻内植齿,其中该本体进一步包括延伸通过斜缩螺纹端部及内植齿本体之末端之各凹隙。37.根据申请专利范围第34项之自攻内植齿,其中每一经修改螺纹段之曲率半径小于骨中预钻孔之壁之曲率半径。38.根据申请专利范围第34项之自攻内植齿,内植齿系用钛制成。39.根据申请专利范围第34项之自攻内植齿,其中该等经修改螺纹段包括一长半径及一短半径,该离隙装置包括环绕与本体纵轴线成偏置之一轴线保持恒定尺度之该等大及小半径。40.一种自攻内植齿,包括:一圆柱形本体,具有接近末端之斜缩下方部份及用以固定内植齿于骨中一预钻孔之壁之螺纹外表面;本体具有设制在螺纹外表面上并纵向延伸通过下方部份内多转螺纹之多条纵向凹隙,以形成多条经修改螺纹段,每一经修改螺纹段具有一前端及一后端,前端具有一自攻切割缘;及沿下方部份之二垂直相邻经修改螺纹段之间界定一面积,此面积至少自前端至后端保持恒定。41.根据申请专利范围第40项之自攻内植齿,其中该等经修改螺纹段包含在切割缘后之大及小半径。42.根据申请专利范围第40项之自攻内植齿,其中每一凹隙延伸通过内植齿之一端部。43.根据申请专利范围第40项之自攻内植齿,内植齿系用钛制成。44.一种自攻内植齿,包括:一圆柱形本体,具有接近末端之斜缩下方部份及用以固定内植齿于骨中一预钻孔之壁之螺纹外表面;本体具有设制在螺纹表面上并纵向延伸通过下方部份内之多转螺纹之多条纵向凹隙,以形成多条经修改螺纹段,每一经修改螺纹段具有一前端及一后端,前端具有一自攻切割缘;及沿下方部份之二垂直相邻经修改螺纹段之间界定具有一槽半径之一槽,该槽自前端之后端逐渐减小达抵销各经修改螺纹段之节距半径由于下方部份斜缩所致增加之量。45.一种自攻内植齿,包括:一圆柱形本体,具有用以固定内植齿于骨中一预钻孔之壁之螺纹外表面;及本体具有设制在螺纹表面上并纵向延伸通过多转螺纹之多条纵向凹隙,以形成各具有自本体纵轴线量计之一节距半径之多条经修改螺纹段,每一经修改螺纹段具有一前端及一后端,前端具有一自攻切割缘,及经修改螺纹段之节距半径自前端至后端逐渐缩减。46.根据申请专利范围第45项之自攻内植齿,其中该本体之螺纹外表面依纵向沿该等凹隙之至少一部斜缩,及斜缩区域中之该等顺序切割具有逐渐改变半径。47.根据申请专利范围第45项之自攻内植齿,其中该等凹隙间各经修改螺纹段之大及小半径均遵循该纵向斜度。48.根据申请专利范围第45项之自攻内植齿,其中每一凹隙延伸通过内植齿之一端部。49.根据申请专利范围第45项之自攻内植齿,其中该节距半径在切割缘后立即缩减。50.根据申请专利范围第47项之自攻内植齿,其中该小半俓之斜缩度大于该大半径。图一为本发明之内植齿之侧视图。图二为图一之内植齿之顶视平面图。图三为图一之内植齿之底视平面图。图四为图三之放大图,显示在内植齿底端开始之本发明之增量自攻切割作用。图五为沿图一之线5-5所取之螺旋断面图,显示四条顺序螺纹段。图六为内植齿之螺纹断面图,显示大径、小径及节径。图七A-七C为沿内植下方部份之二纵向相邻螺纹段间之槽之断面图。图八为本发明之小直径内植齿之侧视图。图九为图八之内植齿之底视平面图。图十为本创作之大直径内植齿之侧视图。图十一为图十之内植齿之底视平面图。图十二为本发明之一种变体内植齿之侧视图。图十三为沿图十二之线13-13所取之断面图。图十四为本发明之一种变体内植齿下方部份之图解式侧视图图十五为本发明之另一种变体内植齿之图解式底视平面图。 |
