| 发明名称 |
VAPOR DRYING METHOD OF SEMICONDUCTOR WAFER |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH1012587(A) |
申请公布日期 |
1998.01.16 |
| 申请号 |
JP19960159933 |
申请日期 |
1996.06.20 |
| 申请人 |
MITSUBISHI ELECTRIC CORP |
发明人 |
NAKAOKA YASUYUKI;HASHIMOTO YOICHI |
| 分类号 |
H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
