| 主权项 |
1.一种制备杂质氢含量小于10ppb,一氧化碳含量小于20ppb及/或氧含量小于25ppb的高钝度液态氮之方法,其特征在于要纯化的液态氮压力为1.5巴和25巴之间,温度为-150℃至-196℃之间,液态氮与选自天然沸石之丝光沸石或选自合成沸石之沸石A,X或Y及多孔金属氧化物之组合之吸附剂接触,可吸附至少一种该等杂质,并回收该高纯度液态氮,但其限制条件为排除其中该吸附剂为未交换沸石且该杂质为一氧化碳之方法。2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中沸石为沸石4A,5A,10X或13X。3.如申请专利范围第1或2项所述之方法,其中该沸石系与至少一种选自锂,硷土金属,如钙,钡或锶;过渡金属,如锌、铁,银等所成组合之中的金属离子交换过者。4.如申请专利范围第3项所述之方法,其中该沸石系与铜离子交换过者。5.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该多孔金属氧化物包含至少一种过渡金属氧化物。6.如申请专利范围第5项所述之方法,其中该多孔金属氧化物包含一混合铜锰氧化物,例如霍佳拉特(hopcalite)。7.如申请专利范围第1或2项所述之方法,其中该吸附剂具有大于或等于0.4奈米(nm)之平均孔径。8.如申请专利范围第7项所述之方法,其中平均孔径为0.5至1奈米。9.如申请专利范围第1或2项所述之方法,其中该杂质基本上含有一氧化碳和氧。10.如申请专利范围第1或2项所述之方法,其中该杂质的吸附是在制备液态氮所用的冷箱之外进行的。11.如申请专利范围第1或2项所述之方法,其中该吸附剂在吸附杂质后接受再生处理。12.如申请专利范围第1或2项所述之方法,其中该吸附剂系分成两个平行安排的分开处理区,其中一区被再生之同时,另一区则与要纯化的液态氮接触。13.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该要纯化的液态氮具有3巴至15巴之压力。14.如申请专利范围第1或2项所述之方法,其中该要纯化的液态氮通过该吸附剂的线型速度高于10-3米/秒。15.如申请专利范围第14项所述之方法,其中线型速度介于10-3至510-2米/秒之间。图示简单说明:--第一图所示为用以从装在贮存槽内的液态氮脱除其中所含杂质之装置。--第二图所示为用以从贮存端的液态氮脱除其中所含杂质之装置。--第三图所示为脱除液态氮所含杂质之装置,该装置包含两个平行安装的吸附反应器。--第四图所示为一液态氮贮存桶,其上装备着一工具以纯化该液态氮且连接到一桶以运送该氮。--第五图所示为用以分离空气所含气体的冷箱,其连接到一纯化液态氮所用之装置。--第六图所示为用以分离空气所含气体的单元,以高纯度液态氮罐装给料操作。--第七图所示为用以经由吸附作用脱除氧气和一氧化碳的装置,其联结着一蒸馏塔以脱除氢气。 |
