Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines strukturierten Reliefbildes aus vernetztem Photoresist auf einer flachen Substratoberfläche,申请号DE19946005451T-传众专利搜索

发明名称	Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines strukturierten Reliefbildes aus vernetztem Photoresist auf einer flachen Substratoberfläche
摘要
申请公布号	DE69405451(T2)	申请公布日期	1998.03.12
申请号	DE19946005451T	申请日期	1994.03.09
申请人	PHILIPS ELECTRONICS N.V., EINDHOVEN, NL	发明人	HAISMA, JAN, NL-5656 AA EINDHOVEN, NL;VERHEIJEN, MARTINUS JOHANNES, NL-5656 AA EINDHOVEN, NL;SCHRAMA, JOHANNES THOMAS, NL-5656 AA EINDHOVEN, NL
分类号	G02B5/20;B29C35/08;B29C35/10;B29C39/14;G03F7/20;G09F3/02;H01L21/027;(IPC1-7):B29C43/22;B29C43/28	主分类号	G02B5/20
代理机构		代理人
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