发明名称 | 以控制杂质分配而获致高纯度莫来石微粉的制造方法 | ||
摘要 | 本发明系有关于一种以控制杂质分配而获致高纯度莫来石微粉的制造方法,其主要系利用液相收集杂质的原理,将氧化铝及氧化矽等之粉末,以适当比例混合使含有过量之氧化矽后,经由高温烧成并急冷,即得到莫来石结晶与含有杂质之玻璃相的混合物,再将此混合物研磨至300 mesh以下的粉末,而后以氢氟酸或氢氧化钠等溶液将此粉末中的玻璃相完全溶出并滤除,则所余之莫来石结晶粉末再经水洗及乾燥,即可得高纯度的莫来石微粉者。 | ||
申请公布号 | TW347414 | 申请公布日期 | 1998.12.11 |
申请号 | TW084111139 | 申请日期 | 1995.10.21 |
申请人 | 中国钢铁股份有限公司 | 发明人 | 塞尔瓦多.第阿社;盖瑞斯.汤玛斯;刘国忠;霍塞.塞拉分.莫雅 |
分类号 | C22B1/16 | 主分类号 | C22B1/16 |
代理机构 | 代理人 | 康伟言 台北巿南京东路三段二四八号七楼;恽轶群 台北巿松山区南京东路三段二四八号七楼 | |
主权项 | 1.一种以控制杂质分配而获致高纯度莫来石微粉的制造方法,其特征系在于利用液相收集杂质的原理,选择工业级或非工业级的含氧化矽及含氧化铝原料,将两者分别以45%-55%及55%-45%之比例相对混合,使混合后之组成具有过量的氧化矽,之后加以1600℃-1650℃高温烧成莫来石晶体及液相混合物后,续以每分钟10℃以上之冷却速率急冷,即得到莫来石结晶与含有杂质之玻璃相的混合物,再将此混合物研磨至300.mesh以下的粉末,而后以浓度5%-10%且温度在室温之氢氟酸或浓度5%-15%且温度在80℃-100℃之氢氧化钠等溶液将此粉末中的玻璃相完全溶出并滤除,则所余之莫来石结晶粉末再经水洗及乾燥,即可得高纯度的莫来石微粉者。图式简单说明:第一图所示系由高岭土及Al2O3粉末混合烧成之混合物置于穿透式电子显微镜(TEM)下的显微照片;m为莫来石结晶,g为玻璃相。第二图所示系第一图之混合物中的莫来石结晶之成份分析图。第三图所示系第一图之混合物中与莫来石结晶相邻的玻璃相之成份分析图。 | ||
地址 | 高雄巿小港区中钢路一号 |