| 主权项 |
1.一种将含有甲烷、C2成分、C3成分及较重烃成分的气流分离成一含有该甲烷及C2成分之主要部分的挥发性残余气馏份及一含有该C3成分及较重烃成分之主要部分的比较少挥发性馏份之方法,其方法中(a)以一或多个热交换及/或膨胀步骤处理该气流以将其至少一部分作部分冷凝而因此提供至少一个第一蒸气束流及至少一个含C3的液流(其亦含有较轻烃类);及(b)至少一个该含C3的液流系被导入一蒸馏塔内,其中该液体分离成一主要含甲烷及C2成分的第二蒸气束流及含该C3成分及较重烃成分之主要部分的该比较少挥发性馏份;改良在于其中(1)至少一部分该第一蒸气束流系被导入该蒸馏塔之塔中央进料位置内当作至其的第二进料;(2)一蒸气束流由该蒸馏塔在该第一蒸气束流下的部位离开及被充分冷却以将它的至少一部分冷凝,因此形成一第三蒸气束流及一冷凝束流;(3)至少一部分的该冷凝束流被送至该蒸馏塔之顶部进料位置;(4)至少一部分的该第二蒸气束流被导入与该蒸气蒸馏束流有关的热交换中,藉以供应给步骤(2)至少一部分的冷却,及之后排放至少一部分的该第二蒸气束流及该第三蒸气束流当作该挥发性残余气馏份;及(5)至该蒸馏塔的该进料束流之量及温度系有效于保持该蒸馏塔之顶上温度于一温度使得该C3成分及较重烃成分之主要部分被回收于该比较少挥发性馏份中。2.如申请专利范围第1项之方法,其中之改良在于:一液体蒸馏束流由该蒸馏塔之一位置离开,该位置系在该蒸气蒸馏束流离开的部位之上,然后该液体蒸馏束流被加热及之后再被导入该蒸馏塔内当作至其的第三进料,位置系低于该蒸气蒸馏束流离开的部位。3.如申请专利范围第1项之方法,其中之改良在于:(1)该冷凝束流被分隔成至少一第一液流及一第二液流;(2)该第一液流被送至该蒸馏塔的顶部进料位置;及(3)该第二液流被送至该蒸馏塔当作至其的第三进料,该第三进料位置系实质上与该蒸气蒸馏束流离开的部位相同。4.如申请专利范围第3项之方法,其中之改良在于:一液体蒸气束流由该蒸馏塔离开,离开的位置系在该蒸气蒸馏束流离开的部位之上,然后该液体蒸气束流被加热及之后再被导入该蒸馏塔内当作至其的第四进料,导入的位置系低于该蒸气蒸馏束流离开的部位。5.一种将含有甲烷、C2成分、C3成分及较重烃成分的气体分离成一含有该甲烷及C2成分之主要部分的挥发性残余气馏份及一含有该C3成分及较重烃成分之主要部分的比较少挥发性馏份之装置,在该装置中有(a)一或多个第一热交换构件及/或膨胀构件合作地连接以提供至少一部分地冷凝之气流,藉以提供至少一第一蒸气束流及至少一含C3的液流(其亦含有较轻烃类);及(b)连接的一蒸馏塔以接收至少一个该含C3的液流,其适合将该束流分离成一主要含甲烷及C3成分的第二蒸气束流及含该C2成分及较重烃成分之主要部分的该比较少挥发性馏份;该装置之改良包括(1)连接于该蒸馏塔的连接构件,用于供应至少一部分该第一蒸气束流至该蒸馏塔之塔中央进料位置;(2)连接于该蒸馏塔的蒸气离开构件,用于接收来自该蒸馏塔在该第一蒸气束流下的部位之一蒸气蒸馏束流;(3)连接于该蒸气离开构件的第二热交换构件,用于接收该蒸气蒸馏束流及将它充分冷却以冷凝它的至少一部分;(4)连接于该第二热交换构件的分离构件,用于接收该部分冷凝的蒸馏束流及分离它,藉以形成第三蒸气束流及冷凝束流,该分离构件更连接至该蒸馏塔以将至少一部分该冷凝束流供应至该蒸馏塔之顶部进料位置;(5)该蒸馏塔更连接至该第二热交换构件以将其中所分离出的该第二蒸气束流之至少一部分导入与该蒸气蒸馏束流有关的热交换中;及(6)控制构件,适用于调整该进料束流至该蒸馏塔之量和温度以保持该蒸馏塔之顶上温度于一温度使得该C3成分及较重成分之主要部分被回收于该比较少挥发性馏份中。6.如申请专利范围第5项之装置,其中之改良在于该装置包括(1)连接于该蒸馏塔的液体离开构件,用于接收来自该蒸馏塔部位(此部位系在该蒸气离开构件之上)的液体蒸馏束流;(2)连接于该液体离开构件的该第一热交换构件,用于接收该液体蒸馏束流及加热它;及(3)该第一热交换构件更连接至该蒸馏塔以将该加热束流送至该蒸馏塔在该蒸气离开构件之下的部位。7.如申请专利范围第5项之装置,其中之改良在于该装置包括(1)连接于该分离构件的分隔构件,用于接收该冷凝束流及将它分隔成至少第一及第二液流,该分隔构件更连接至该蒸馏塔以将该第一液流送至该蒸馏塔之顶部进料位置;及(2)该分隔构件更连接至该蒸馏塔以将该第二液流送至该蒸馏塔,送入位置为实质上与该蒸气离开构件相同的部位。8.如申请专利范围第7项之装置,其中之改良在于该装置包括(1)连接于该蒸馏塔的液体离开构件,用于接收来自该蒸馏塔部位(此部位系在该蒸气离开构件之上)的液体蒸馏束流;(2)连接于该液体离开构件的第一热交换构件,用于接收该液体蒸馏束流及加热它;及(3)该第一热交换构件更连接至该蒸馏塔以将该加热束流送至该蒸馏塔在该蒸气离开构件之下的部位。图式简单说明:第一图系依美国专利号4,617,039的先前技艺低温天然气加工工厂之流程图;第二图系依共同审理中的美国专利申请号08/696,114之替代系统的低温膨胀天然气加工工厂之流程图;第三图系依共同审理中的美国专利申请号08/696,114之第二替代系统的低温膨胀天然气加工工厂之流程图;第四图系依本发明的天然气加工工厂之流程图;第五图系一流程图,说明应用本发明于天然气流之一替代方式;及第六图系一流程图,说明应用本发明于天然气流之另一替方式。 |
