含羟胺与烷醇胺之水溶脱组合物及其用途

摘要

一种用于从基材上移除有机涂层或无机残余物之水性溶脱组合物，此组合物系包含：a)55至70重量%之单乙醇胺；b)22.5至15重量%之羟胺；c)其余为水，及视需要一种抑制剂。此溶脱组合物于低温下可有效溶脱光阻剂、电浆方法之残渣与或不与有机光阻剂薄膜所产生的有机、金属有机物质、无机盐、氧化物、氢氧化物或错合物，而不再沉积任何实质量的金属离子。

主权项

1.一种自基材上移除所有之有机涂层或无机残留物之水性溶脱组合物,其系由以下之成份所组成:a)55%至70%重量计之单乙醇胺,b)15%至22.5%重量计之羟基胺,c)水,以及d)1%至10%重量计之抑制剂,其系由选自苯邻二酚、连苯三酚、邻胺基苯甲酸、棓酸与棓酸酯中之化合物所形成者。2.根据申请专利范围第1项之溶脱组合物,其系包括60%重量计之单乙醇胺,17.5%重量计之羟基胺,17.5%重量计之水,以及5%重量计之抑制剂。3.一种自经涂覆基材上移除涂层之方法,其系包括将溶脱有效量之根据申请专利范围第1项的溶脱组合物施用于上述经涂覆之基材上,使该溶脱组合物停留于该经涂覆之基材上一段溶脱有效的时间,同时将羟基胺之浓度维持于15%至22.5%,以及将涂层自该基材上移除。