发明名称 羟酸衍生物,其制法及含彼之组合物
摘要 本发明系关于具下式I之羟酸衍生物$$ I其中,其取代基系具如下定义 X 系CH、CHO或NO; Y 系O或NH; Z 系O、S或NRa; Ra 系氢、烷基、烯基或炔基; R1 系氢、烷基或卤烷基; R2 系经或未经取代之烷基、烯基、炔基或环烷基;且 R3 系经或未经取代之烷基、烯基或炔基,本发明亦关于此等化合物之制法,及含该等化合物且用以控制动物及真菌害虫之组合物。
申请公布号 TW352383 申请公布日期 1999.02.11
申请号 TW085109046 申请日期 1996.07.24
申请人 巴地斯颜料化工厂 发明人 艾伯哈德艾莫蒙
分类号 A01N33/20 主分类号 A01N33/20
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种具下式I之羟酸衍生物I其中该取代具如下意义:X系CH、CHO或NO;Y系O或NH;Z系O、S或NRa;Ra系氢或C1-C6烷基;R1系C1-C6烷基或C1-C4卤烷基;R2系未取代之C2-C6烷基;经卤素或氰基取代之C1-C6-烷基;C1-C6烷氧基-C1-C6烷基,其上可经或不经卤素取代;基,其上可经或不经卤素或C1-C4卤烷基取代;C3-C6烯基,其上可经或不经卤素取代;C3-C6炔基;(CH2)PA,其中P为1-2,且A为C3-C6环烷基;(CH2)qNB1B2,其中q为1-4,且B1及B2为C1-C4烷基;C3-C6环烷基;或异唑基;R3系C1-C6烷基,其上可经或不经氰基取代;C2-C6炔基;或C1-C6烷氧基-C1-C6烷基。2.根据申请专利范围第1项之式I衍生物,其中R2系具如下意义:C2-C6烷基或C3-C6烯基,此等基团可能经部份或完全卤化;甲基,其上系连接一至三个卤素原子及/或一个氰基;C3-C6环烷基。3.根据申请专利范围第1项之式I衍生物,其中Z系氧或硫。4.一种制备根据申请专利范围第1项式I衍生物之方法,其包括以已知方式令式II基衍生物(其中L1系可亲核交换之离基)与式III羟亚胺反应。5.一种制备根据申请专利范围第1项式I衍生物之方法,其包括以已知方式令如申请专利范围第4项之式II苄基衍生物与式IV二羟亚胺反应而得式V化合物且接着令式V化合物与式VIa化合物R3-L2 VIa(其中L2系可亲核取代之离基)反应而得式I衍有生物。6.一种适于控制动物害虫或有害真菌之组合物,其系包括固态或液态载剂与根据申请专利范围第1项之式I衍生物。7.一种控制有害真菌之方法,其包括以有效量根据申请专利范围第1项之式I衍生物处理真菌或欲保护而对抗真菌侵害之物料、植物、土壤或种子。8.一种控制动物害虫之方法,其包括以有效量根据申请专利范围第1项之式I衍生物处理该害虫或欲保护而对抗该害虫之物料、植物、土壤或种子。9.一种具下式III之化合物其中取代基Z,R1,R2及R3均如申请专利范围第1项所定义者。0.一种具下式Xa之化合物其中取代基X,Y、R1及R3均如申请专利范围第1项所定义者。
地址 德国