PROCESSO DI CODEPOSIZIONE SOTTO VUOTO DI STRATI SOTTILI MEDIANTE PECVD E ION PLATING ASSISTITO DA PLASMA,申请号IT1997RM00570-传众专利搜索

发明名称	PROCESSO DI CODEPOSIZIONE SOTTO VUOTO DI STRATI SOTTILI MEDIANTE PECVD E ION PLATING ASSISTITO DA PLASMA
摘要
申请公布号	ITRM970570(A1)	申请公布日期	1999.03.22
申请号	IT1997RM00570	申请日期	1997.09.22
申请人	CE.TE.V. CENTRO TECNOLOGIE DEL VUOTO	发明人	MISIANO CARLO
分类号	C23C;H05H	主分类号	C23C
代理机构		代理人
主权项
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