| 主权项 |
1.一种负型光阻组成物,其包含选自酚醛清漆树脂、含有50莫耳%以上乙烯基苯酚之树脂或含有50莫耳%以上异丙烯基苯酚之树脂之硷溶性树脂,交联剂及至少一种作为光诱发酸先质的由通式(I)表示的磺酸酯:式中R1为C2-4烷撑基;而R2为C1-6烷基或苯基,其中组成之比例各为50至95%重量之硷溶性树脂,1至30%重量之交联剂,及1至20%重量之光诱发酸先质。2.一种正型光阻组成物,其包含选自酚醛清漆树脂、含有50莫耳%以上乙烯基苯酚之树脂或含有50莫耳%以上异丙烯基苯酚之树脂之硷溶性树脂,溶解抑制剂和至少一种作为光诱发酸先质的由通式(I)表示之磺酸酯:式中R1为C2-4烷撑基;而R2为C1-6烷基或苯基,其中组成之比例各为20至90%重量之硷溶性树脂,5至50%重量之溶解抑制剂,及0.1至20%重量之光诱发酸先质。3.根据申请专利范围第1项之负型光阻组成物,其含有一种电子供给化合物,系选自由4-甲氧基-1-酚和-酚之多环芳族化合物或2-羟基-唑、唑和乙酸之多环芳族杂环化合物;其中电子供给化合物含量为每100份重量光阻组成物之0.001至5份重量。4.根据申请专利范围第2项之正型光阻组成物,其含有一种电子供给化合物,系选自由4-甲氧基-1-酚和-酚之多环芳族化合物或2-羟基-唑、唑和乙酸之多环芳族杂环化合物;其中电子供给化合物含量为每100份重量光阻组成物之0.001至5份重量。5.根据申请专利范围第3项之负型光阻组成物,其中该电子供给化合物的第一氧化还原电位为低于1.0eV。6.根据申请专利范围第4项之正型光阻组成物,其中该电子供给化合物的第一氧化还原电位为低于1.0eV。7.根据申请专利范围第1项之负型光阻组成物,其含有一种作为硷溶性树脂之酚醛清漆树脂,其乃获自于经由下式表示的一种化合物:与醛类化合物之缩合反应;乙烯基苯酚树脂,异丙烯基苯酚树脂,乙烯基苯酚/苯乙烯共聚物或异丙烯基苯酚/苯乙烯共聚物。8.根据申请专利范围第2项之正型光阻组成物,其含有一种作为硷溶性树脂之酚醛清漆树脂,其乃获自于经由下式表示的一种化合物:与醛类化合物之缩合反应;乙烯基苯酚树脂,异丙烯基苯酚树脂,乙烯基苯酚/苯乙烯共聚物或异丙烯基苯酚/苯乙烯共聚物。9.根据申请专利范围第1,3或5项之负型光阻组成物,其含有乙烯基苯酚/苯乙烯共聚物作为硷溶性树脂。10.根据申请专利范围第9项之负型光阻组成物,其更可包含由氢化聚(乙烯基苯酚)所制成的树脂作硷溶性树脂。11.根据申请专利范围第1项之负型光阻组成物,其中该交联剂为下列化合物其中之一:12.根据申请专利范围第2项之正型光阻组,成物,其中该溶解抑制剂为下列化合物其中之一:13.根据申请专利范围第1项之负型光阻组成物,其中作为光诱发酸先质的由通式(I)表示之磺酸酯为下式表示的化合物其中之一:14.根据申请专利范围第2项之正型光阻组成物,其中作为光诱发酸先质的由通式(I)表示之磺酸酯为下式表示的化合物其中之一: |
