发明名称 制程监控阶段码识别装置
摘要 一种制程监控阶段码识别装置,系设置于电路小片间之切割道上。此制程监控阶段码识别装置,系与该等电路小片内之罩幕式记忆单元同时形成,其系以复数互为并联之金氧半场效电晶体建构而得。当藉由一编码罩幕规画罩幕式记忆单元时,同时规画此编码罩幕之编号所代表之二进位码于此等金氧半场效电晶体内。因此,根据本发明,可在制程监控时,藉由读出此等金氧半场效电晶体内储之二进位码,得即刻辨识出所规画得之程式码是否为客户所需之程式码。若所规画得之程式码非为符合客户所需之程式码,即毋需进行后段制程步骤,以减省实施时所需耗费的成本。
申请公布号 TW357422 申请公布日期 1999.05.01
申请号 TW086117877 申请日期 1997.11.27
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 陈莘白;喻绍宗;游志成;叶维焜
分类号 H01L21/66 主分类号 H01L21/66
代理机构 代理人 洪澄文 台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种制程监控阶段码识别装置,系设置于电路小片间之切割道上,与该等电路小片内之罩幕式记忆单元同时形成;该制程监控阶段码识别装置,包括复数金氧半场效电晶体;当藉由一编码罩幕规画该罩幕式记忆单元时,同时亦将该编码罩幕之编号所代表之二进位码,规画储存于该等金氧半场效电晶体内。2.如申请专利范围第1项所述之该制程监控阶段码识别装置,其中,该等金氧半场效电晶体之闸极互呈电性耦接成一第一接点,该等金氧半场效电晶体之源极互呈电性耦接成一第二接点。3.如申请专利范围第2项所述之该制程监控阶段码识别装置,当需读出该二进位码时,该第一接点系连接至约介于3.3-5V间之电位,该第二接点系连接至约为接地电位,而自该等金氧半场效电晶体源极获取该二进位码。4.如申请专利范围第1项所述之该制程监控阶段码识别装置,其中,储存该二进位码的方式是非挥发性的。5.如申请专利范围第4项所述之该制程监控阶段码识别装置,其中,储存该二进位码,是以调整该等金氧半场效电晶体个别临限电压的方式形之。6.如申请专利范围第5项所述之该制程监控阶段码识别装置,其中,调整该等金氧半场效电晶体个别临限电压者是以离子布植法形之。图式简单说明:第一图系显示一晶圆上业经定义区分为复数电路小片之顶视图;以及第二图系显示根据本发明一较佳实施例的电路图。
地址 新竹科学工业园区研新一路九号