发明名称 具微刻纹之磁性记录媒体的制造方法及其构造
摘要 现今制造磁性记录媒体(magnetic recording media)的方法,大致是将一碟片基板先以机械抛光处理,使其表面平坦化,然后直接以雷射脉冲在碟片基板内侧的环型区域中形成刻纹(texture),造成粗糙表面作为读写磁头的降落区(landing zone),之后再覆盖磁性材料层于碟片基板上。然而,由于各厂家提供之碟片基板的表面粗糙度不同,且随着置放于空气中时间的拉长,其表面易有异常之凸起物(asperity)及生成氧化物,影响了碟片基板表面的平坦度(smooth),使得雷射刻纹之尺寸与形状不易控制。此外,经机械抛光后的碟片基板,其表面纹路呈不规则分布,也使得磁性材料层之特性不易控制在期望范围内。因此,本发明提出一种具微刻纹(light texture)之磁性记录媒体制造方法及其构造,其于雷射刻纹程序之前先施以两阶段微磨处理,一方面去除碟片基板上之凸起物与氧化物层,一方面于表面形成复数个成适当夹角的环向(circumferential)微刻纹,其粗糙度小于雷射刻纹者。如此,不仅可确保碟片基板表面的平坦度,有助于雷射刻纹形状和尺寸的控制,并且呈环向分布之微刻纹,亦有助于形成符合期望特性之磁性材料层。
申请公布号 TW363183 申请公布日期 1999.07.01
申请号 TW086117315 申请日期 1997.11.19
申请人 和乔科技股份有限公司 发明人 林政德;林哲贤;张元铭;谭安宏
分类号 G11B5/84 主分类号 G11B5/84
代理机构 代理人 洪澄文 台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种具微刻纹(iight texture)之磁性记录媒体制造方法,包括下列步骤:(a)提供一碟片基板;(b)对该碟片基板施行第一阶段微磨处理,用以去除该碟片基板异常之凸起物和氧化物层,并在该碟片基板表面上形成复数个成适当夹角的环向微刻纹;(c)对该碟片基板施行第二阶段微磨处理,消除该碟片基板表面因第一阶段微磨处理所新生成之尖锐小凸起物,以获得一平坦表面;(d)施行一雷射脉冲处理程序,用以在该碟片基板内侧一环型区域内形成复数雷射刻纹,作为为一读写磁头的降落区(landingzone);以及(e)形成一磁性材料层覆盖在该碟片基板表面上。2.如申请专利范围第1项所述一种具微刻纹之磁性记录媒体制造方法,其中步骤(a)该碟片基板包括一镀有磷化镍(NiP)的铝板。3.如申请专利范围第1项所述一种具微刻纹之磁性记录媒体制造方法,其中步骤(b)该第一阶段微磨处理包括:顺向旋转该碟片基板,其转速约为150rpm;以研磨带(tape)施加约1英磅之压力至该碟片基板,并且作幅度约为2mm的振动;及注入粒径约1m之钻石研浆(diamond slurry)来进行研磨约6秒钟。4.如申请专利范围第1项所述一种具微刻纹之磁性记录媒体制造方法,其中步骤(c)该第二阶段微磨处理包括:逆向旋转该碟片基板,其转速约为150rpm;以研磨带(tape)施加约1英磅之压力至该碟片基板,并且作幅度约为2mm的振动;及注入粒径约1m之钻石研浆来进行研磨约8秒钟。5.如申请专利范围第1项所述一种具微刻纹之磁性记录媒体制造方法,其中施行步骤(c)后该碟片表面的粗糙度Ra系介于8至12A之间。6.如申请专利范围第1项所述一种具微刻纹之磁性记录媒体制造方法,其中该环向微刻纹间之夹角的范围,在该碟片基板内环区域(ID)为6至8度、在该碟片基板中环区域(MD)为4至6度、而在该碟片基板外环区域(OD)为2至4度。7.一种具微刻纹(light texture)之磁性记录媒体构造,该构造包括:一碟片基板,其中在该碟片基板中间一环型区域上具有复数个雷射刻纹,形成读写磁头的降落区,且在该碟片基板的其他表面上,具有复数个成适当夹角的环向微刻纹,其粗糙度小于该雷射刻纹者,且其夹角的范围,在该碟片基板内环区域(ID)为6至8度、在该碟片基板中环区域(MD)为4至6度、而在该碟片基板外环区域(OD)为2至4度;以及一磁性材料层,覆盖在该碟片基板上。8.如申请专利范围第7项所述一种具微刻纹之磁性记录媒体构造,其中该碟片基板包括一镀有磷化镍(NiP)的铝板。9.如申请专利范围第7项所述一种具微刻纹之磁性记录媒体构造,其中该环向微刻纹系以两阶段微磨处理所形成。10.如申请专利范围第7项所述一种具微刻纹之磁性记录媒体构造,其中该碟片基板微刻纹区域的粗糙度Ra系介于8至12A之间。图式简单说明:第一图系一磁性记录媒体与滑行磁头的上视示意图;第二图系一习知磁性记录媒体的制造流程图;第三图系第二图之制造方法所制得磁性记录媒体的局部立体示意图;第四图为根据本发明一较佳实施例的制造流程图;第五图系第四图之制造方法所制得磁性记录媒体的局部立体示意图;第六图系碟片基板经微磨处理与否,对其表面元素组成(surface composition)影响的关系图;第七图系碟片基板经微磨处理与否,磁性材料层在碟片中环区域各角度之矫顽磁力(Hcr)的变化关系图;以及第八图系碟片基板经微磨处理与否,磁性材料层在碟片中环区域各角度之残留磁矩(Mrt)的变化关系图。
地址 新竹科学园区科技五路八号