发明名称 遮蔽装置及其遮蔽方法
摘要 一装置及方法被提供以遮蔽及/或发射如飞行体或追踪装置等装置。装置包含有具有底部之主体,数片联结于且由上述底部向上延伸之墙壁,及由上述底部和数片墙壁之内部范围所定义之内室较佳。当内室盖子位于关闭位置时,联结于主体之内室盖子可提供遮盖主体之内室。当内室盖子位于开启位置时,内室盖子可提供进入主体之内室。遮蔽装置安装台位于内室里且联结于主体以安装被遮蔽之装置较佳。遮蔽装置延伸及撤回机构联结于遮蔽装置安装台,其可由底部向上延伸遮蔽装置安装台,同时开启之内室盖子至遮蔽装置安装台操作使用之位置,且可朝向底部向下撤回遮蔽装置安装台,同时关闭之内室盖子至遮蔽装置安装台提供遮蔽之位置。
申请公布号 TW364933 申请公布日期 1999.07.21
申请号 TW086112073 申请日期 1997.08.22
申请人 国际设计系统公司 发明人 艾瑞屈沃兹伯格;沙巴那瑟阿沙巴;彼得乌斯索夫
分类号 E04B1/346 主分类号 E04B1/346
代理机构 代理人 林镒珠 台北巿长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种遮蔽装置,包含有:一具有底部之主体,数片联结于且由上述底部向上延伸之墙壁,及由上述底部和上述数片墙壁之内部范围所定义之内室;当联结于上述主体之内室遮盖及进入机构位于关闭位置时,其可遮盖上述主体之内室,当遮盖及进入机构位于开启位置时,其可提供进入上述主体之内室;遮蔽装置安装机构位于内室里且联结于上述主体以安装被遮蔽之装置;且遮蔽装置安装延伸及撤回机构联结于上述遮蔽装置安装机构,其可由上述底部向上延伸上述遮蔽装置安装机构,同时开启之上述内室遮盖及进入机构到达上述遮蔽装置安装机构可被操作使用之位置,其亦可朝向上述底部向下撤回上述遮蔽装置安装机构,同时关闭之上述内室遮盖及进入机构到达上述遮蔽装置安装机构可遮蔽之位置。2.如申请专利范围第1项所述之装置,其中上述内室遮盖及进入机构包含有联结于上述主体之一对盖子部件,其可遮盖及进入内室之上端,和联结于上述一对盖子部件之盖子延伸及撤回机构,其可先向外然后再向下延伸上述每一对盖子部件至开启位置,且先向上然后再向内撤回上述每一对盖子部件至关闭位置。3.如申请专利范围第1项所述之装置,其中上述内室遮盖及进入机构包含有联结于上述主体之一对盖子部件,其可遮盖及进入内室之上端,和联结于上述一对盖子部件之盖子延伸及撤回机构,其可先向下然后再向外延伸上述每一对盖子部件至开启位置,且先向内然后再向上撤回上述每一对盖子部件至关闭位置。4.如申请专利范围第2项所述之装置,当上述一对盖子部件位于开启位置时,其中上述遮蔽装置安装延伸及撤回机构向上延伸上述遮蔽装置安装机构于上述每一对盖子部件之上端到达操作使用之位置。5.如申请专利范围第2项所述之装置,其中上述延伸及撤回机构沿着通常为弧形之路径向外及向下延伸上述每一对盖子部件。6.如申请专利范围第2项所述之装置,其中上述遮蔽装置安装延伸及撤回机构由上述底部沿着通常为垂直之路径经过开启之一对盖子部件向上延伸及撤回上述遮蔽装置安装机构。7.如申请专利范围第2项所述之装置,其中上述数片墙壁包含有至少一前壁及一后壁,其中每一对上述盖子部件通常为弧形,当上述盖子部件位于关闭位置遮盖内室时,其中每一对上述盖子部件之上端相互连接,当上述盖子部件位于关闭位置时,其中每一对上述盖子部件之下端延伸于前壁及后壁上端之下。8.如申请专利范围第1项所述之装置,进一步包含有联结于上述遮蔽装置安装机构之旋转机构,以旋转上述遮蔽装置安装机构至选定之位置供遮蔽装置操作使用。9.如申请专利范围第1项所述之装置,在不同环境条件下,进一步包含有联结于上述主体之温度控制机构,以控制上述主体内室之温度。10.如申请专利范围第1项所述之装置,进一步包含有联结于上述主体远距遥控指令讯号感应机构,其可感应由远距来源传输至上述主体之事先设定指令,以开启及关闭上述内室遮盖及进入机构。11.如申请专利范围第1项所述之装置,其中被遮蔽装置包含有数个飞弹飞行体。12.如申请专利范围第1项所述之装置,其中被遮蔽装置包含有一个雷达追踪装置。13.一种遮蔽装置,包含有:一具有底部之主体,数片联结于且由上述底部向上延伸之墙壁,及由上述底部和上述数片墙壁之内部范围所定义之内室;当联结于上述主体之内室盖子位于关闭位置时,其可遮盖上述主体之内室,当内室盖子位于开启位置时,其可提供进入上述主体之内室,上述内室盖子包含有联结于上述主体之一对盖子部件,其可遮盖及进入内室之上端,及联结于上述一对盖子部件之盖子延伸及撤回机构,其可沿着通常为弧形之路径向外及向下延伸上述每一对盖子部件至开启位置,且可沿着通常为弧形之路径向上及向内延伸上述每一对盖子部件至关闭位置;遮蔽装置安装平台位于内室里且联结于上述主体以利遮蔽安装之装置;且平台延伸及撤回机构联结于上述遮蔽装置安装平台,其可由上述底部沿着通常为垂直之路径经过开启之一对盖子部件向上延伸上述遮蔽装置安装平台,同时开启上述之一对盖子部件至上述遮蔽装置安装平台操作使用之位置,且可朝向上述底部沿着通常为垂直之路径经过开启之一对盖子部件向下撤回上述遮蔽装置安装平台,同时关闭上述之一对盖子部件至上述遮蔽装置安装平台遮蔽被安装装置之位置。14.如申请专利范围第13项所述之装置,当上述一对盖子部件位于开启之位置,其中上述平台延伸及撤回机构向上延伸上述遮蔽装置安装平台至上述一对盖子部件上端之操作使用位置。15.如申请专利范围第14项所述之装置,其中上述主体之数片墙壁包含有至少一前壁及后壁,其中每一对上述盖子部件通常为弧形,当每一对上述盖子部件位于关闭位置以遮盖内室时,每一对上述盖子部件之上端相互连接,且当每一对上述盖子部件位于关闭位置以遮盖内室时,每一对上述盖子部件之下端延伸至前壁及后壁上端下面。16.如申请专利范围第15项所述之装置,进一步包含有联结于上述遮蔽装置安装平台之旋转机构,其可旋转上述遮蔽装置安装平台至选定之位置以供遮蔽装置操作使用。17.如申请专利范围第16所述之装置,进一步包含有联结于上述遮蔽装置安装平台之倾斜机构,其可倾斜上述遮蔽装置安装平台至选定之位置以供遮蔽装置操作使用。18.如申请专利范围第17项所述之装置,进一步包含有联结于上述主体之温度控制器,在不同环境条件下,其可控制上述主体之内室温度。19.如申请专利范围第18项所述之装置,进一步包含有联结于上述主体之远距指令讯号感应器,其可感应由远距来源传输事先定义之指令讯号至上述主体以开启及关闭上述盖子部件。20.如申请专利范围第19项所述之装置,其中遮蔽装置包含有数个飞弹飞行体。21.如申请专利范围第19项所述之装置,其中遮蔽装置包含有一雷达追踪装置。22.一种遮蔽装置,包含有:一具有底部之主体,数片联结于且由上述底部向上延伸之墙壁,及由上述底部和上述数片墙壁之内部范围所定义之内室;当联结于上述主体之内室遮盖及进入机构位于关闭位置时,其可遮盖上述主体之内室,当内室遮盖及进入机构位于开启位置时,其可提供进入上述主体之内室;飞行体安装机构位于内室里且联结于上述主体以安装至少一个飞行体;且飞行体安装延伸及撤回机构联结于上述飞行体安装机构,其可由上述底部向上延伸上述飞行体安装机构,同时开启之上述内室遮盖及进入机构至上述飞行体安装机构发射之位置,且可朝向上述底部向下撤回上述飞行体安装机构,同时关闭之上述内室遮盖及进入机构至上述飞行体安装机构被遮蔽之位置。23.如申请专利范围第22项所述之装置,其中上述内室遮盖及进入机构包含有一对联结于上述主体之盖子部件,其可遮盖及进入内室之上端,以及联结于上述一对盖子部件之盖子延伸及撤回机构,其可向外及向下延伸每一对上述盖子部件至开启之位置,且向上及向内撤回每一对上述盖子部件至关闭之位置。24.如申请专利范围第22项所述之装置,其中上述内室遮盖及进入机构包含有一对联结于上述主体之盖子部件,其可遮盖及进入内室之上端,以及联结于上述一对盖子部件之盖子延伸及撤回机构,其可向下及向外延伸每一对上述盖子部件至开启之位置,且向内及向上撤回每一对上述盖子部件至关闭之位置。25.如申请专利范围第23项所述之装置,当上述一对盖子部件位于开启位置时,其中上述飞行体安装延伸及撤回机构向上延伸上述飞行体安装机构于上述一对盖子部件之上端至发射位置。26.如申请专利范围第25项所述之装置,其中上述盖子延伸及撤回机构沿着通常为弧形之路径向外及向下延伸每一对上述盖子部件。27.如申请专利范围第26项所述之装置,其中上述飞行体安装延伸及撤回机构由上述底部沿着通常为垂直之路径经过开启之盖子部件向上延伸及撤回上述飞行体安装机构。28.如申请专利范围第27项所述之装置,其中上述数片墙壁包含有至少一前壁及后壁,其中上述每一对上述盖子部件通常为弧形,当位于关闭位置遮盖内室时,其中上述每一对上述盖子部件之上端相互连接,当上述每一对上述盖子部件位于关闭位置时,其中上述每一对上述盖子部件之下端延伸位于前壁及后壁之上端。29.如申请专利范围第28项所述之装置,进一步包含有联结于上述飞行体安装机构之旋转机构,其可旋转上述飞行体安装机构至选定之位置以供发射至少一个飞行体。30.如申请专利范围第29项所述之装置,进一步包含有联结于上述飞行体安装机构之倾斜机构,其可倾斜上述飞行体安装机构至选定之位置以供发射至少一个飞行体。31.如申请专利范围第30项所述之装置,进一步包含有联结于上述主体之温度控制器,在不同环境条件下,其可控制上述主体之内室温度。32.如申请专利范围第31项所述之装置,进一步包含有联结于上述主体之远距指令讯号感应器,其可感应由远距来源传输事先定义之指令讯号至上述主体以开启及关闭上述盖子遮盖及进入机构。33.一种遮蔽方法,其方法包含有:一具有底部之主体,数片联结于且由上述底部向上延伸之墙壁,及由上述底部和上述数片墙壁之内部范围所定义之内室;当联结于上述主体之内室遮盖及进入机构位于关闭位置时,其可遮盖上述主体之内室,当内室遮盖及进入机构位于开启位置时,其可提供进入上述主体之内室;当一对内室盖子部件位于关闭位置时,装置被安装于位于内室里之蔽装置平台上;由上述底部向上延伸遮蔽装置安装平台,同时开启之一对上述内室盖子部件到达遮蔽装置安装平台可被操作之位置,其亦可朝向上述底部向下撤回遮蔽装置安装平台,同时关闭之一对上述内室盖子部件到达上述遮蔽装置安装平台可遮蔽之位置。34.如申请专利范围第33项所述之方法,进一步包含有向外及向下延伸每一对盖子部件至开启之位置,及包含有向上及向内撤回每一对盖子部件至关闭之位置。35.如申请专利范围第33项所述之方法,进一步包含有向下及向外延伸每一对盖子部件至开启之位置,及包含有向内及向上撤回每一对盖子部件至关闭之位置。36.如申请专利范围第34项所述之方法,其中延伸及撤回一对内室盖子部件之步骤包含有沿着通常为弧形之路径延伸及撤回一对盖子部件。37.如申请专利范围第34项所述之方法,当一对盖子部件位于开启之位置时,其中延伸及撤回遮蔽装置安装台之步骤包含有向上延伸遮蔽装置安装台于每一对盖子部件之上端到达操作使用之位置。38.如申请专利范围第37项所述之方法,其中延伸及撤回遮蔽装置安装台之步骤进一步包含有沿着通常为垂直之路径延伸及撤回遮蔽装置安装台经过开启之一对盖子部件。39.如申请专利范围第34项所述之方法,进一步包含有旋转遮蔽装置安装台至选定之位置以利被遮蔽装置之操作使用。40.如申请专利范围第34项所述之方法,进一步包含有倾斜遮蔽装置安装台至选定之位置以利被遮蔽装置之操作使用。41.如申请专利范围第34项所述之方法,在不同环境条件下,进一步包含有控制主体之内室温度。42.如申请专利范围第34项所述之方法,进一步包含有感应由远距来源传输至主体之事先设定之指令讯号,以开启及关闭一对内室盖子部件。43.一种遮蔽方法,此方法包含有:开启之一对内室盖子部件,其可遮盖主体之内室;向上延伸遮蔽装置安装台位于主体之内室里,同时开启之一对内室盖子部件到达遮蔽装置安装台操作使用之位置;关闭之一对内室盖子部件;且向下撤回遮蔽装置安装台,同时关闭之一对内室盖子部件到达遮蔽装置安装台遮蔽被安装装置之位置。44.如申请专利范围第43项所述之方法,进一步包含有向外及向下延伸每一对盖子部件至开启之位置,及包含有向上及向内撤回每一对盖子部件至关闭之位置。45.如申请专利范围第43项所述之方法,进一步包含有向下及向外延伸每一对盖子部件至开启之位置,及包含有向内及向上撤回每一对盖子部件至关闭之位置。46.如申请专利范围第44项所述之方法,其中开启及关闭一对内室盖子部件之步骤包含有沿着通常为弧形之路径延伸及撤回一对盖子部件。47.如申请专利范围第46项所述之方法,当一对盖子部件位于开启之位置时,其中延伸及撤回遮蔽装置安装台之步骤包含有向上延伸遮蔽装置安装台于每一对盖子部件之上端到达操作使用之位置。48.如申请专利范围第47项所述之方法,其中延伸及撤回遮蔽装置安装台之步骤进一步包含有沿着通常为垂直之路径延伸及撤回遮蔽装置安装台经过开启之一对盖子部件。49.如申请专利范围第48项所述之方法,进一步包含有旋转遮蔽装置安装台至选定之位置以利被遮蔽装置之操作使用。50.如申请专利范围第49项所述之方法,进一步包含有倾斜遮蔽装置安装台至选定之位置以利被遮蔽装置之操作使用。51.如申请专利范围第50项所述之方法,在不同环境条件下,进一步包含有控制主体之内室温度。52.如申请专利范围第51项所述之方法,进一步包含有感应由远距来源传输至主体之事先设定之指令讯号,以开启及关闭一对内室盖子部件。53.一种遮蔽方法,此方法包含有:开启之内室盖子,其可遮盖主体之内室;向上延伸遮蔽装置安装台位于主体之内室里,同时开启之内室盖子到达遮蔽装置安装台操作使用之位置;54.如申请专利范围第53项所述之方法,进一步包含有关闭之内室盖子,及包含有向下撤回遮蔽装置,以使关闭之内室盖子到达遮蔽装置可遮蔽装置之位置。55.如申请专利范围第54项所述之方法,其中开启及关闭内室盖子之步骤包含有沿着通常为弧形之路径延伸及撤回内室盖子。56.如申请专利范围第55项所述之方法,其中延伸及撤回遮蔽装置之步骤进一步包含有沿着通常为垂直之路径延伸及撤回遮蔽装置经过开启之内室盖子。57.如申请专利范围第56项所述之方法,当内室盖子位于开启之位置时,进一步包含有遮蔽装置之定位至选定操作位置。图式简单说明:第一图根据本发明之第一实施例,系为遮蔽装置位于关闭及遮蔽位置之立体环境视图。第二图根据本发明之第一实施例,系为遮蔽装置位于开启及发射位置之立体环境视图。第三图根据本发明之第一实施例,系为遮蔽装置之部分前水平视图,其包含虚拟之一双手位于关闭及遮蔽位置。第四图根据本发明之第一实施例,系为遮蔽装置之部分前水平视图,其包含虚拟之一双手位于开启及发射位置。第五图根据本发明之第一实施例,系为遮蔽装置之前水平视图,其说明平台之上/下移动,一对盖子部件之上/下移动,及安装于平台之发射体之旋转移动。第六图根据本发明之第二实施例,系为安装有追踪装置于其中之遮蔽装置之前水平视图。第七图根据本发明之第三实施例,系为遮蔽装置之前水平视图,其遮蔽装置安装台位于延伸位置,且有部分破裂以便清晰可见。第八图根据本发明之第三实施例,系为遮蔽装置之前水平视图,其遮蔽装置安装台位于撤回位置,且有部分破裂以便清晰可见。第九图根据本发明之第三实施例,系为遮蔽装置之剖面视图,其系延第八图之直线9-9取得。第十图根据本发明之第三实施例,系为遮蔽装置之遮蔽安装锁定机构之部分前水平视图,其系延第九图之直线10-10取得。第十一图根据本发明,系为遮蔽装置之左侧水平视图,其具有部分破裂以便清晰可见。第十二图根据本发明,系为遮蔽装置之右侧水平视图,其盖子部件位于撤回及关闭位置,且有部分破裂以便清晰可见。
地址 科威特