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经营范围
发明名称
CLEANING OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号
JPH11274129(A)
申请公布日期
1999.10.08
申请号
JP19980077257
申请日期
1998.03.25
申请人
MITSUBISHI MATERIALS SILICON CORP
发明人
TAKADA RYOKO;FUJIMOTO MARUHISA;TAKAISHI KAZUNARI
分类号
H01L21/304;(IPC1-7):H01L21/304
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
地址
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