| 主权项 |
1.一种扫描曝光装置,其中,一置于第一级的第一物体的表面的一图样受到由照明装置的一细长缝隙而来的曝光光线所照射,其中,第一物体的图样经由一投影光学系统投影于第二级上的第二物体的表面,同时,相对地及扫描方式以狭隙孔径之宽度方向移动该第一及第二级,以相对投影光学系统之投影放大倍数之时间关系及速度比例进行,该装置包含:提供于所述之第一及第二级之一的部份中的参考薄板及该板具有一预定的标记;提供于所述之第一及第二级的另一个中之部份的反射表面薄板,而非所述之参考薄板;及一表面位置侦测系统,用以经由所述之投影光学系统,而投影所述之参考薄板的标记于所述之反射表面薄板上,同时移动所述之第一及第二级的一个于一光学轴的一方向上,用以基于一藉由所述之反射表面薄板反射之影像,来侦测于光学轴方向上第二物体的表面的位置。2.如申请专利范围第1项之装置,其中,所述之装置以前述的许多的参考薄板组成,它们被置于所述之第一级上的第一物体的扫描方向上,其中,所述之表面位置侦测系统侦测第二物体的表面位置于所述之许多的参考薄板中的一参考薄板上的光学轴方向,如申请专利范围第1项之装置,接近于所述投影光学系统的光学轴方向。3.如申请专利范围第1项之装置,其中,所述之参考薄板形成许多标记以便于表面位置的侦测,它们被置于与扫描方向垂直的方向。4.如申请专利范围第1项之装置,其中,所述之装置前述的许多的参考薄板组成,其中,所述之表面位置侦测系统侦测第二物体的表面位置于反射表面薄板上,接近于所述之投影光学系统的光学轴方向。5.如申请专利范围第1项之装置,其中,所述之反射表面薄板置于所述之第二级的一部份,其中,所述之反射表面薄板具有一长度于垂直于扫描方向的方向,它较所述之第二级上的第二物体表面的直径长。6.如申请专利范围第1项之装置,更包含一离轴表面位置侦测系统,其中,藉由光线投影系统而不使用所述之投影光学系统,图样是斜向于第二物体的表面被投影,其中,形成于第二物体的表面的一图样的影像,藉由一光线接收元件的表面上的光线接收系统重新映射,且其中,相对于光学轴方向,相关于第二物体的表面的位置资讯被侦测,相关于重新映射图样的影像的位置资讯上,于所述之光线接收元件表面上,其中所述之离轴表面位置侦测系统,藉由前面所提的表面位置侦测系统所得之资料,执行校准。7.一扫描曝光装置,其中,一置于第一级的第一物体的表面的一图样受到由照度装置的一细长缝隙而来的曝光光线所照射,其中,当相对的及扫描的于细长缝隙的宽度方向移动所述的第一及第二级时,第一物体的图样经由一投影光学系统投影于第二级上的第二物体的表面,所述之投影光学系统的投影量与其成一时间关系及一速度比,所述之装置包含:提供于所述之第一及第二级的部份中的反射薄板及一预定的标记;提供于所述之第一及第二级的另一部份的参考表面薄板,而非所述之反射薄板;及一表面位置侦测系统,经由所述之投影光学系统及经由所述之参考薄板的传导部份,观测所述之反射薄板的标记,当移动所述之第一及第二级的一个于一光学轴的一方向上,基于一藉由所述之反射薄板之一影像,以侦测第二物体的表面的位置于光学轴方向。8.如申请专利范围第7项之装置,其中,所述之装置以前述的许多的参考薄板组成,它们被置于所述之第一级上的第一物体的扫描方向上,其中,所述之表面位置侦测系统侦测第二物体的表面位置于所述之许多的参考薄板中的一参考薄板上的光学轴方向,接近于所述投影光学系统的光学轴方向。9.如申请专利范围第7项之装置,其中,所述之参考薄板形成许多标记,以便于表面位置的侦测,它们被置于与扫描方向垂直的方向。10.如申请专利范围第7项之装置,其中,所述之装置以被提供的许多的参考薄板组成,其中,所述之表面位置侦测系统侦测第二物体的表面位置于反射薄板上,接近于所述之投影光学系统的光学轴方向。11.如申请专利范围第7项之装置,其中,所述之反射薄板置于所述之第二级的一部份,其中,所述之反射薄板具有一长度于垂直于扫描方向的方向,它较所述之第二级上的第二物体表面的直径长。12.如申请专利范围第7项之装置,其中,此装置更包含一离轴表面位置侦测系统,其中,藉由光线投影系统而不使用所述之投影光学系统,图样是斜向于第二物体的表面被投影,其中,形成于第二物体的表面的一图样的影像,藉由一光线接收元件的表面上的光线接收系统重新映射,且其中,相对于光学轴方向,相关于第二物体的表面位置资讯被侦测,相关于重新映射图样的影像的位置资讯上,于所述之光线接收元件表面上,其中所述之离轴表面位置侦测系统,藉由前面所提的表面位置侦测系统所得之资料,执行校准。图式简单说明:第一图为依据本发明实施例的的一扫描曝光装置主要部份的设计及图解。第二图为第一图一部份的放大视图。第三图为根据本发明的另一实施例的扫描曝光装置的一部份的图解。第四图为根据本发明的另一实施例的扫描曝光装置的部份图解。第五图为根据本发明的另一实施例的扫描曝光装置的主要部份的设计及图解。第六图为依据本发明的一实施例之,说明其动作的流程图。第七图为依据本发明的另一实施例,说明其动作的流程图。第八图为根据本发明的一实施例,说明其装置生产程序的流程图。第九图为根据本发明的一实施例,说明其装置生产程序中之一的流程图。第十图为根据本发明的再一实施例的扫描曝光装置的主要部份的设计及图解。第十一图为说明本发明中的一实施例的参考表面薄板的图解。第十二图为说明本发明中的一实施例的反射表面薄板的图解。第十三图为说明本发明中的一实施例的参考表面薄板及反射表面薄板的图解。第十四图为根据本发明中的一实施例,说明的扫描曝光装置的一部份的设计及图解。第十五图为说明本发明中的一实施例的参考薄板的图解。第十六图为说明本发明中的一实施例的光线接收系统的图解。第十七图为说明本发明中的一实施例的动作流程图。第十八图为说明本发明中的一实施例的动作流程图。第十九图为说明本发明中的一实施例的动作流程图。第二十图为说明本发明中的另一实施例的动作流程图。第二十一图为说明本发明中的一实施例的动作流程图。 |
