| 主权项 |
1.一种投射罩模上之影像图形至光敏基片上之曝光装置,该装置包含:一本体;可移动至该本体及适于安装该罩模之第一平台;可移动至该本体及适于安装该光敏基片之第二平台;一测量该第一平台上所安装罩模或第二平台上所安装光敏基片之位置之测量装置;一测量该本体震动之震动感测器;及一基于该震动感测器之测量値及该测量装置之测量値控制该第一平台上所安装罩模或第二平台上所安装光敏基片之位置之位置控制器。2.根据申请专利范围第1项之曝光装置,其中该位置控制器基于由该震动感测器以一前馈方式输入之测量値及该测量装置之测量値控制该第一平台上所安装罩模及第二平台上所安装光敏基片之任一个。3.根据申请专利范围第1项之曝光装置,其中该罩模平台及该基片平台系藉着该平台控制系统在相对该投影光学系统之一预定速度比率下相对地扫瞄。4.根据申请专利范围第1项之曝光装置,其中该第二平台及该第一平台之至少一个系由对其上面之粗动平台施行一相对移动之微动平台所构成;及该位置控制系统基于由该震动感测器以一前馈方式输入之测量値及该测量装置之测量値控制该微动平台之位置。5.根据申请专利范围第1项之曝光装置,其中该本体包含一投影光学系统,该影像图形系经由该投影光学系统由该罩模投射至该光敏基片,及该震动感测器测量该投影光学系统之震动。6.根据申请专利范围第1项之曝光装置,其中该震动感测器系一加速仪。7.根据申请专利范围第1项之曝光装置,另包含:至少一设在该本体中之致动器;驱动控制机制,用于控制该致动器之驱动,以便抑止该本体之震动;反力计算机制,俾基于该位置侦测装置之测量値靠着该本体之变化计算一反力,而以一前馈方式输入该反力至该驱动控制器;及震动控制计算机制,俾基于该震动感测器之侦测结果计算一供给至该驱动控制机制之致动器驱动回馈信号及一供给至该平台控制机制之平台回馈信号,以便不会改变该基片上之图案移转位置。8.根据申请专利范围第1项之曝光装置,另包含:设在该第一平台上之第一反射镜子,设在该第二平台上之第二反射镜子,固定至该曝光装置本体平台外侧之一固定部份之第三镜子,及一干扰仪,用于照射光线至该第一反射镜子或该第二反射镜子上及至该第三反射镜子上与测量该第一平台或该第二平台之位置;其中该震动控制计算机制于该第三反射镜子位置之水平面上之二维方向中计算一震动状态,及回馈该震动状态至该平台控制机制,以便控制至少该第一及第二平台之一。9.根据申请专利范围第7或8项之曝光装置,其中该震动控制计算机制于该本体之震动中心计算三或更多自由度方向之振动状态,及将该振动状态回馈至该驱动控制机制。10.一种将固定于第一平台之单模上所形成之图案曝光至第二平台所固定之光敏基片上之曝光方法,该方法包含下列步骤:测量该罩模或该光敏基片之位置以提供第一资料;测量一安装该罩模平台及基片平台之本体之震动,以提供第二资料;及基于该第一及第二资料控制该第一或第二平台。11.根据申请专利范围第10项之方法,另包含下列步骤:基于该第一资料靠着该本体之变化计算一反力,而以一前馈方式输入该反力至该驱动控制器,该驱动控制器控制该致动器之驱动;及计算一供给至该驱动控制器之致动器驱动回馈信号及一供给至该平台控制器供驱动该平台之平台回馈信号,以便基于该平台回馈信号及该致动器驱动回馈信号驱动该平台,俾不会改变该基片上之图案移转位置,而施行该投影曝光操作。图式简单说明:第一图系根据本发明一实施例显示一扫瞄型曝光装置结构之概要图。第二图系显示第一图中所示装置之一平台控制系统结构之方块图。第三图系根据本发明一实施例显示一投影曝光装置轮廓之透视图。第四图系显示该曝光装置本体之震动控制系统结构之示意图。第五图系显示第四图示意图每一部份详细结构之示意图。 |
