发明名称 涂布薄流体涂层条之方法及装置
摘要 一种以成条之超薄层涂布基片之系统,包括使基片32移动通过一涂布站,并形成一包括涂层流体244,248及一种载体流体252之复合层48。复合层48以足够高速率流动,以形成一连续流动之复合层流体桥之基片表面,并以流动之复合层接触基片,将涂层插置在基片与载体流体之间。除去载体流体,而留下涂层流体作为涂层敷着在基片。
申请公布号 TW375535 申请公布日期 1999.12.01
申请号 TW084113815 申请日期 1995.12.23
申请人 孟尼苏泰矿务及制造公司 发明人 卡尔.理查.凯塞;威廉.肯斯.里欧那德
分类号 B05D1/02 主分类号 B05D1/02
代理机构 代理人 陈长文
主权项 1.一种涂布薄流体涂层条之方法,该薄流体涂层条系被涂布于一基片32上,该方法包含下列步骤:使基片32沿一路径移动通过一涂布站;形成许多具有不同配方之至少第一及第二涂层流体244,248之单独流动条;使涂层流体流动成并排邻接接触,以形成一并排条之单一流动层,而在相邻条之间无功能性混合;形成一复合层48,包含许多涂层流体244,248及至少一有一配方不同于第一及第二涂层流体者之载体流体252;使复合层48流动,速率足以形成一连续流动之复合层流体桥至供涂层宽度之基片,其中复合层之载体流体252部份为连续;使基片32与流动之复合层48接触,以将涂层插置在基片与载体流体之间;以及除去载体流体252,而留下涂层流体作为涂层敷着在基片上。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中使流动步骤包含使复合层48以足够高速率流动,以形成一连续流动复合层流体桥至供涂层宽度之基片,而不足够高而形成一仅有涂层流体之连续流动流体桥。3.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中除去载体流体252步骤包含至少机械式刮除,藉重力排放,离心去除,吹风,藉接触一种吸收性固体材料吸收,挤压,吸除,及藉磁性牵引拉除之一。4.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中敷着在基片上之涂层有一厚度小于50微米。5.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中使移动步骤包含使基片32以速度1至2000公尺/分钟移动通过涂布站。6.根据申请专利范围第1项之方法,其中形成复合层步骤包含连续计量个别流体通过个别孔口,并且其中形成许多单独流动条之涂层流体步骤包含使诸条流动通过具有造成对应条之互补分配槽沟宽度之个别模具腔212,222。7.根据申请专利范围第1项之方法,另包含下列步骤:在接触基片步骤前,敷着复合层48至一转移110表面;自转移面除去载体流体252;以及在转移面敷着步骤及载体流体除去步骤后,将涂层流体244,248之若干部份自转移面转移至基片32。8.根据申请专利范围第1项之方法,另包含选择一种不弄湿涂层所覆盖基片之载体流体252之步骤。9.根据申请专利范围第1项之方法,另包含选择一种不可与涂层溶混,粘度低于涂层,并且表面张力大于涂层之载体流体252之步骤。10.根据申请专利范围第1项之方法,其中除去载体流体252步骤包含除去至少百分之十载体流体,而留下并排涂层条之层敷着在基片上。11.根据申请专利范围第1项之方法,其中除去载体流体252步骤包含除去载体流体,而不使载体流体乾燥。12.根据申请专利范围第1项之方法,其中除去载体流体252步骤包含在载体流体固化或胶凝后,以及在涂层流体胶凝,固化或化学反应后除去载体流体。13.根据申请专利范围第1项之方法,另包含以湿厚度25至10000埃在基片32敷着涂层流体之许多单独流动条之步骤。14.根据申请专利范围第1项之方法,其中形成一复合层48步骤包含使用与涂层流体不可溶混之载体流体,其与之形成一介面,并且其中载体流体具有导使其不保持如一连续薄膜覆盖第一及第二涂层流体涂布基片表面之湿润特性。15.一种涂布薄流体涂层条之装置,该薄流体涂层条被涂布于一基片32上,该装置包含:供将具有不同配方成并排邻接接触,并可形成并排条之单一流动层之至少第一及第二单独涂层流体244,248合在一起,而在相邻条之间无功能性混合之装置;供敷着许多涂层流体244,248至一配方不同于第一及第二涂层流体者之载体流体252,造成许多流动层之流体成面对面彼此接触,以形成一复合层48之装置;供使基片32以一与该装置之间开之距离移动,以供合在一起,允许复合层48形成一连续流动之流体桥至供希望厚度之基片,并将涂层敷着于基片上之装置;供除去载体流体252,而留下涂层流体作为涂层敷着在基片之装置。16.根据申请专利范围第15项之装置,其中供合在一起之装置包含一有一表面258,一槽沟在腔232与该表面之间连通,及一唇边316之模具210,其中载体流体252自槽沟退出至该表面,并沿表面流动至唇边,其中敷着装置敷着涂层流体244,248至载体流体252,而载体流体沿表面流动,并且其中复合层沿模具表面输送至模具唇边。17.根据申请专利范围第16项之装置,其中模具210另包含许多供容纳个别涂层流体之腔212,222及分配槽沟260,262;以及一有一厚度并位于至少一第一涂层流体模具分配槽沟之填隙片274,其中填隙片厚度确定一第一涂层流体模具分配槽沟缝隙,其中填隙片包含至少一凹口278及至少一无凹口部份284,其中凹口填隙片位于第一涂层流体模具分配槽沟时产生一槽沟在,并且其中槽沟为不连续越过模具之宽度并被无凹口部份所中断,其中流动通过第一涂层模具分配槽沟之涂层流体自模具计量并流动如一条。18.根据申请专利范围第17项之装置,其中一填隙片290s位于一第二涂层流体模具分配槽沟,并且其中每一填隙片包含至少一凹口294及至少一无凹口部份296,其中凹口在填隙片位于第二涂层流体模具分配槽沟时产生一槽沟,并且其中槽沟为不连续越过模具之宽度并被无凹口部份所中断,其中流动通过第二涂层模具分配槽沟之涂层流体自模具计量并流动如一条,并且其中在第一涂层流体模具分配槽沟中之填隙片上之凹口,在一下幅片方向对应于在第二涂层流体模具分配槽沟中之填隙片上之无凹口部份,以产生一单层之第一及第二涂层流体之邻接并排条。19.根据申请专利范围第17项之装置,其中模具210系以若干模具板266,268,270,272所形成,二相邻模具板界定一分配槽沟,并且其中在二相邻涂层流体模具分配槽沟之间并界定此二分配槽沟之模具板为楔块形,以导使槽沟在楔块之点合并在一起。图式简单说明:第一图为一根据本发明之滑板屏幕涂层装置之示意图。第二图为一根据本发明另一实施例之射流涂层装置之示意图。第三图为一已知槽沟模具涂层装置之示意图。第四图为一根据本发明另一实施例之简化屏幕涂层装置之示意图。第五图为本发明另一实施例,在涂层流体转移至幅片前,使用一转移辊除去载体流体之示意图。第六图为本发明另一实施例,使用一转移辊将载体及涂层流体载运至幅片之示意图。第七图为本发明另一实施例,使用一刀片在辊装置上与一涂层流体之模具涂布器合并之示意图。第八图为本发明另一实施例使用于涂敷相邻条之示意图。第九图为一用于第八图之涂布机之填隙片之侧视图。第十图为一用于第八图之涂布机之另一填隙片之侧视图。第十一图为一以条所涂布之幅片之剖面图。
地址 美国
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