| 主权项 |
1．光掩模的制造方法，通过使用布局设计得到的EB绘图图形数据在光掩模上形成EB绘图图形，所述EB绘图图形数据由多个单元(211-214)的分层结构中形成的第一数据(210,210a)和在多个单元(201-207)的分层结构中形成的第二数据(200,200a)组成，所述第二数据以相对于第一数据预定的放大比例x用在光掩模上，其特征在于包括第一步骤，将所述第二数据的尺寸乘x产生第三数据；第二步骤，使用来自所述第一数据的第一连接数据和所述第三数据的第二连接数据合成所述第一数据和第三数据，产生合成数据；第三步骤，检验合成数据中的单元组合是否与布局设计所依据的电路相匹配，并改正通过检验发现有错误的部分；第四步骤，由改正的合成数据的所述第一数据和所述第一连接数据产生所述第一EB绘图图形数据；第五步骤，通过改正的合成数据的所述第三数据和所述第二连接数据乘1/x产生所述第二EB绘图图形数据；第六步骤，使用所述第一EB绘图图形数据通过绘制/曝光形成在所述光掩模上的所述第一EB绘图图形，以及使用所述第二EB绘图图形数据通过绘制/曝光形成在光掩模上的所述第二EB绘图图形，同时所述第二EB绘图图形数据相对于所述第一EB绘图图形数据增加x倍，从而形成所述EB绘图图形。 |
