一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法

摘要

一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法，最低沉积温度为250℃，其特征在于选用波长在308nm的XeCl准分子激光作激光源，过程如下：将欲沉积衬底放在高导热率材料的工作台上，用XeCl准分子激光辐照衬底欲沉积金刚石膜区，并在预抽真空的反应室中通入能吸收该激光波长的碳氢化合物反应气（含汽化液体或固体）和氢气，碳氢化合物反应气与氢气的流量比为（1～3）∶100，在适当工艺条件下，在衬底表面沉积出金刚石膜，工艺条件是：XeCl激光单脉冲能量20～500mj/pules；XeCl激光脉宽15～40ns；脉冲频率5～40Hz。本发明所制膜层纯度高，沉积温度低，易于实现，安全可靠。

主权项

1．一种激光化学气相沉积金刚石膜的方法，最低沉积温度为250℃，其特征在于选用波长在308nm的XeCl准分子激光作激光源，过程如下：将欲沉积衬底放在高导热率材料的工作台上，用XeCl准分子激光辐照衬底欲沉积金刚石膜区，并在预抽真空的反应室中通入能吸收该激光波长的碳氢化合物反应气(含汽化液体或固体)和氢气，碳氢化合物反应气与氢气的流量比为(1～3)∶100，在适当工艺条件下，在衬底表面沉积出金刚石膜，工艺条件是：XeCl激光单脉冲能量 20～500mj/pulesXeCl激光脉宽 15～40ns脉冲频率 5～40Hz。