| 主权项 |
1.一种微气相层析仪样品注入结构,系利用圆柱塞之上下移动,将固定体积的样品由样品通路注入分离管,样品通路有内部及外部两种设计,圆柱塞之上下移动有电动式及气体动力式两种设计,圆柱之沟槽以微蚀刻技术完成,包括微影光刻技术、准分子雷射、电铸技术及射出成型。2.如申请专利范围第1项所述之微气相层析仪样品注入结构,其中内部样品通路系在圆柱之外套开四个口,并利用穿孔或蚀刻沟槽,在圆柱塞制作三个通路,作为气体传送的通路;外部样品通路系在圆柱之外套开六个口,等距分布在周边,而传送样品的沟槽则蚀刻在圆柱塞周围,分上下两部份,每一部份有三道沟槽,每一沟槽占周围之 1/6 或 60度。3.如申请专利范围第1项之微气相层析仪样品注入结构,其中圆柱塞移动方式设计,电动式系利用电磁线圈通电流后,将圆柱塞向上移动至固定位置,以达到注入样品之目的,当样品注入完后切断电流,弹簧将圆柱塞往下压回原来准备之位置;气体动力式,则以高压气体将圆柱塞向上移动至固定位置,当样品注入完后,高压气体立即排放掉,此时弹簧将圆柱塞往下压回原来准备之位置。4.如申请专利范围第1项之微气相层析仪样品注入结构,其中圆柱体上之样品流动沟槽蚀刻,以传统铣刀加工技术、准分子雷射加工技术或微影光刻技术进行。5.如申请专利范围第1项之微气相层析仪样品注入结构,其中样品注入系统控制圆柱体,以射出成型技术大量生产;射出成型用模具,则以电铸技术制造之。第一图:气相层析仪主要构造之示意图第二图:气相层析仪以旋转阀注入样品之示意图第三图:内部样品通路设计图第四图:内部样品通路设计之圆柱塞横截面图第五图:外部样品通路设计图第六图:外部样品通路设计之圆柱塞图第七图:电动式圆柱塞移动设计图第八图:气体动力式圆柱塞移动设计图 |
