| 主权项 |
1.一种处理由一气体分布底层(9;75)支撑的一颗粒材料床(6;78)之方法,其利用来自一或数个下方隔室(15;76)的处理气体,经由诸导管(19;35;77)以分段的方式导引至并往上经过该气体分布底层与该材料层,其特征在于:该处理气体流经每一导管(19;35;77)的流量以提供于每一导管内的一流量调节器(21)予以调节。2.如申请专利范围第1项之方法,其特征在于:调节流经每一导管(19;35;77)的气体流量,使此流量随着横越该层上方部份的压力差增加而增加;反之,此流量随着横越该层上方部份的压力差降低而减少。3.如申请专利范围第1项之方法,其特征在于:在横越该层的上方部份发生任何压力差时,使流经每一导管(19;35;77)的气体流量实质地维持固定。4.如申请专利范围第1.2或3项之方法,其特征在于:持续地调整每一单独的流量调节器(21)的设定,以达成所欲之诸流量特性。5.如申请专利范围第4项之方法,其特征在于:以连接至一控制单元(25)的测量与监控设备(23),自动地调整诸流量调节器的设定。6.一种处理一颗料材料床(6;78)的装置(1;71),该装置(1;71)包含用以支撑该被处理层的一气体分布底层(9;75),并配备一些用以从一或多个下方隔室(15;76)分段地供应处理气体之诸导管(19;35;77),其特征在于:此装置在每一导管(19;35;77)内包含一流量调节器(21)7.如申请专利范围第6项之装置(1;71),其特征在于:每一流量调节器(21)包含一或数个可变的,似细腰管式喷嘴装置(45)。8.如申请专利范围第7项之装置(1;71),其特征在于:每一喷嘴装置(45)经由一连接装置(46),连接至一可变的限制装置(44)。9.如申请专利范围第6项之装置(1;71),其特征在于:每一流量调节器(21)包含一或数个可变的,似孔式喷嘴装置(90)。10.如申请专利范围第9项之装置(1;71),其特征在于:每一喷嘴装置(90)包含至少两个流量限制装置(91;92),其共同定义至少一个喷嘴开口(93);诸流量限制装置(91;92)其中至少一个可相对于其余(诸)装置而移动,且连接至用以产生此移动的诸装置(94;95)。11.如申请专利范围第10项之装置,其特征在于:每一位移装置(94;95)包含一可动板(94),在该板于喷嘴开口之前的一侧遍布压力P1,而在该板于喷嘴开口(93)之后的另一侧遍布压力P2;该可动板(94)系直接或间接地连接至一外部构造(95)。12.如申请专利范围第11项之装置,其特征在于:该等流量限制装置(91;92)规划为使得在某一特定的操作范围内,对任何横越该喷嘴而遍布的压力差之喷嘴开口总面积,能准确地导致所欲之流经该导管(19;35;77)的气体流量。13.如申请专利范围第6项之装置(1;71),其特征在于:每一单独的流量调节器(21)包含用以调整其设定之装置(51;52)。14.如申请专利范围第13项之装置(1;71),其特征在于:该装置包含测量与监控设备(23),其经由一控制单元而连接至每一单独的流量调节器之诸调整装置(51;52)。15.如申请专利范围第6.7.8.9.10.11.12.13或14项之装置,其特征在于:该装置为一炉架冷却器(1),用以冷却高温微粒材粒(6),例如从一水泥窑(3)排出的水泥溶滓。16.如申请专利范围第6.7.8.9.10.11.12.13或14项之装置,其特征在于:该装置为一流化层窑(71)。第一图显示可依据本发明而使用的一流量调节器之第一实施例;第二图显示可依据本发明而使用的一流量调节器之第二实施例;第三图显示可依据本发明而使用的一流量调节器之第三实施例;第四图显示可依据本发明而使用的一流量调节器之第四实施例;第五图显示可依据本发明而使用的一流量调节器之第五实施例;第六图显示使用一特定的流量调节器与不使用任何调节器时,流经一导管的气体流量其各自的操作曲线;第七图显示包含依本发明之诸流量调节器的炉架冷却器,其第一形式的一侧视图;第八图显示亦包含依本发明之诸流量调节器的炉架冷却器,其第二形式的一侧视图;又第九图显示包含依本发明之诸流量调节器的一流化层层窑。 |
