使用近红外线光光谱仪改进含浸制程的控制

摘要

本创作系关于铜箔基板制造中产品之胶化时间，胶含量及原料凡立水之胶化时间、环氧官能基含量等检测方法的改善。其利用一近红外光光谱仪检测最终产品(prepreg)，由于光谱形成之特性使得可分析之胶化时间或胶含量动态范围不受限制。而定量分析方法中使用波数4080~520 Ocm-l之光谱范围，并以PLS(Partial Least Square)方法分析制作检量线定量，可补偿所分析之光谱吸收峰受邻近吸收峰的影响而使误差降低，同时检量线维护之困难亦获得改善。故凡立水的胶化时间及环氧官能基含量、产品基板的胶化时间及胶含量等的检测方法改善，可提升制程控制及产品品质的稳定性。

主权项

一种使用近红外线光光谱仪改进含浸制程的控制装置,系有关于铜箔基板制造过程中,产品之胶化时间(gel time)、胶含量(resin constent)以及原料凡立水之胶化时间、环氧官能基含量等之检测,其特征在于:使用一部富氏转换近红外光光谱仪(FT-NIR),其发射器与接收器可接设有复数组光纤穿透式量测组件,可产生一光纤光束,可分别检测含浸后之最终产品(Prepreg)数个特定位置,其检测顺序由电子计算机所控制,结果亦分别计算及储存;其中一组光纤用途为取背景、维护、修改及制作检量线;另含有一样品检测槽可量测以一般玻璃容器所盛装之进料样品;近红外光光谱仪检测器所检测的光谱为连续光谱,波数范围由3900-9000 cm-1(样品槽之光谱波数范围3500-9000cm-1),取4080-5200cm-1作为检量线制作之分析范围,此波数范围包含了甲基、环氧基及其它官基能,在含浸制程之变化过程中,此等官能基在光谱中的吸收峰形成消长之情形,并以化学统计学PLS(Partia1 LeastSquare)分析计算比较检量线结果可得知胶化时间及胶含量之改变値者。图式简单说明:第一图:系本创作之检测装置配置及流程示意图。第二图:系本创作检测组件配置立体示意图。