| 主权项 |
1.一种检测积体电路针脚用的高解析度光学系,其构造包括:一光源,用以产生光线照射在IC积体电路上,以形成背影之影像;一CCD,用以将背影影像转变成像素讯号,再输入电脑;在IC积体电路及CCD之间放置第一双像棱镜组;其特征在于:该第一双像棱镜组包括有:一右前下立方体;一右前上棱镜,用以堆置于该右前下立方体的上方,且该右前上棱镜上具有一右前上反射面;一左前下棱镜,用以堆置于该右前下立方体的左侧,且该左前下棱镜上具有一左前下反射面;一左后下棱镜,用以堆置于该左前下棱镜的后方,且该左后下棱镜上具有一左后上反射面;一左后下棱镜,用以堆置于该左前下棱镜的后方,且该左后下棱镜上具有一左后上反射面;一左后上棱镜,用以堆置于左后下棱镜之上方,且该左后上棱镜上具有一左后上反射面;及一右后下棱镜,用以堆置于该右前下立方体之后及左后下棱镜的右方,且该右后下棱镜上具有一右后下反射面;在IC积体电路放置于右前下立方体及左前下棱镜之前之际,积体电路之右半部背影之影像射入右前下方体后,再射入右后下棱镜,背影之影像经右后下反射面全反射及向左射入左后下棱镜,再经左后下反射面全反射及向上射入左后上棱镜,背影之影像经左后上反射面全反射及向后射出;而积体电路左半部背影之影像射入左前下棱镜后,再经左前下反射面全反射及向上射入左前上棱镜,经左前上反射面全反射及向右射入右前上棱镜,经右前上反射面全反射后及向后方射出。2.如申请专利范围第1项所述的检测积体电路针脚用的高解析度光学系统;其中第一双像棱镜组被第二双像棱镜组所取代,该第二双像棱镜组包括:一左前下棱镜,具有一左前下反射面;一左前上棱镜,用以堆置于左前下棱镜之上方,且该左前下棱镜上具有一左前下反射面;一左后下棱镜,用以堆置于左前下棱镜的后方,且该左后下棱镜上具有一左后下反射面;一左后上棱镜,用以堆置于左后下棱镜的上方,且该左后下棱镜上具有一左后上反射面;一右前上五棱镜,用以堆置于左前上棱镜的右方,且该右前上五棱镜上具有一两个右前上五棱镜反射面;及一右后下五棱镜,用以堆置于左后下棱镜的右方,且该右后下五棱镜具有两个右后下五棱镜反射面;在积体电路放置于右后下五棱镜及左前下棱镜之前之际,积体电路之右半部背影之影像射入右后下五棱镜后,背影影像经右后下五棱镜的第一反射面及右后下五棱镜的第二反射面全反射及向左射入左后下棱镜,再经左后下反射面全反射及向上射入左后上棱镜,背影之影像经左后上反射面全反射及向后射出;而积体电路左半部背影及影像射入左前下棱镜后,再经左前下反射面全反射及向上射入左前上棱镜,经左前上反射面全反射及向右射入右前上五棱镜,经右前上五棱镜的第一反射面及右前上五棱镜的第二反射面全反射及向后方射出。图式简单说明:第一图系本创作之高解析度光学系统所用第一双像棱镜之前右上方立体示意图。第二图A系本创作之高解析度光学系统所用第一双像棱镜组之左侧视图。第二图B系本创作之高解析度光学系统所用第一双像棱镜组之正视图。第二图C系本创作之高解析度光学系统所用第一双像棱镜组之右侧视图。第三图系本创作之高解析度光学系统所用第一双像棱镜组之后右上方立体示意图。第四图系本创作之高解析度光学系统所用第一双像棱镜之前左上方立体示意图。第五图系本创作之高解析度光学系统的立体示意图。第六图系本创作之高解析度光学系统的电脑显示图。第七图系习知之光学系统的立体示意图。第八图系习知之双像镜片的正视图。第九图系习知之双像镜的剖面示意图。第十图系利用习知光学系统所产生IC背影影像图。第十一图系本创作之高解析度光学系统所用的第二双像棱镜组之后右上方立体分解图。第十二图系本创作之高解析度光学系统所用的第二双像棱镜组之后右上方立体示意图。第十三图系本创作之另一实施例的高解析度光学系统之立体示意图。第十四图系本创作之第二双像棱镜组的五棱镜之立体示意图。 |
