Deponiervorrichtung

摘要

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Deponieren einer Materialschicht auf einem Werkstück. Die Vorrichtung umfaßt eine Kammer (11), ein Sputtertarget (12), eine Scheibenabstützung (13), eine Scheibentransportöffnung (14) sowie einen Scheibentransportmechanismus (15). Der letztere führt die Scheiben entlang eines Transportweges (16). Ein Ringschild (19) befindet sich zwischen der Abstützung (13) und dem Target (12) und liegt in dem Scheibentransportweg (16). Stifte (30) sind vorgesehen, um den Ringschirm aus dem Transportweg (16) herauszuheben.