| 主权项 |
1.一种稳定的涂料组合物,其包括至少一种聚合物溶液,该聚合物系具有选自下列之化学式:[(HSiO1.5)xOy]n,[(HSiO1.5)x(RSiO1.5)y]n以及(HSiO1.5)xOy(RSiO1.5)z]n,其中x=6到20,y=1到3,z=6到20,n=1到4,000,且各个R分别系H,C1到C8烷基或C6到C12芳基,且至少一种溶剂系选自由(CH3)3Si-O-[Si(CH3)2]a-Si(CH3)3,(CH3CH2)Si-O-[Si(CH3CH2)2]a-SiCH3CH2)3,R3Si-O-[SiR'2]a-SiR3,[O-Si(CH3)2]b以及[O-Si(CH3CH2)2]b所组成之群,其中a=0-5,b=3-5,而各个R'分别为H或C1到C8烷基。2.根据申请专利范围第1项的组合物,其中n的范围由100到800。3.根据申请专利范围第1项的组合物,其中聚合物的化学式为[(HSiO1.5)x(RSiO1.5)y]n。4.根据申请专利范围第1项的组合物,其中该溶剂包括一或多种组份,其系选自包括十甲基四矽氧烷、1,3-二辛基四甲基二矽氧烷、八甲基三矽氧烷、五甲基二矽氧烷、六甲基二矽氧烷、1,1,3,3,5,5,-六甲基三矽氧烷、1,1,3,3-四甲基二矽氧烷、1,3-双-(三甲基矽氧基)-1,3-二甲基矽氧烷、双-(三甲基矽氧基)乙基矽烷、双(三甲基矽氧基)甲基矽烷、十甲基四矽氧烷,十二甲基五矽氧烷、1,1,1,3,3,5,5,-七甲基三矽氧烷、六乙基二矽氧烷、七甲基三矽氧烷、1,1,3,3,-四异丙基二矽氧烷,十四基环五矽氧烷、六乙基环三矽氧烷、六甲基环三矽氧烷、1,3,5,7-四甲基环四矽氧烷、五甲基环五矽氧烷、八甲基环四矽氧烷、化学式为(CH3HSiO)3-5之甲基氢化环矽氧烷、1,3,5,7,四乙基环四矽氧烷以及1,3,5,7四甲基环四矽氧烷。5.根据申请专利范围第1项的组合物,其中溶剂包括一或多种组份,其系选自包括十甲基环五矽氧烷,八甲基环四矽氧烷,八甲基三矽氧烷以及四甲基二矽氧烷。6.根据申请专利范围第1项的组合物,其中聚合物的量为组合物重量之由10重量%到30重量%,溶剂的量为组合物重量之由70重量%到90重量%。7.一种阻碍至少一种聚合物分子量增加之方法,该聚合物具有选自下列之分子式:[(HSiO1.5)xOy]n,[(HSiO1.5)x(RSiO1.5)y]n以及(HSiO1.5)xOy(RSiO1.5)z]n,其中x=6到20,y=1到3,z=6到20,n=1到4,000,且各个R分别为H、C1到C8烷基或C6到C12芳基,该方法包括形成一聚合物及至少一种溶剂之溶液,其中该溶剂系选自包括(CH3)3Si-O-[Si(CH3)2]a-Si(CH3)3,(CH3CH2)Si-O-[Si(CH3CH2)2]a-Si-(CH3CH2)3,R3Si-O-[SiR'2]a-SiR3,[O-Si(CH3)2]b以及[O-Si(CH3CH2)2]b,其中a=0-5,b=3-5,各个R'分别为H或C1到C8之烷基。8.一种于基材上形成层的方法,包括形成至少一种聚合物之溶液,该聚合物系选自包括下列化学式:[(HSiO1.5)xOy]n,[(HSiO1.5)x(RSiO1.5)y]n以及[(HSiO1.5)xOy(RSiO1.5)z]n,其中x=6到20,y=1到3,z=6到20,n=1到4,000,且各个R分别为H、C1到C8烷基或C6到C12芳基,且至少一种溶剂系选自由(CH3)3Si-O-[Si(CH3)2]a-Si(CH3)3,(CH3CH2)3Si-O-[Si(CH3CH2)2]a-Si-(CH3CH2)3,R3Si-O-[SiR'2]a-SiR3,[O-Si(CH3)2]b以及[O-Si(CH3CH2)2]b其中a=0-5,b=3-5,各个R'分别为C1到C8烷基;将该溶液涂覆至基材上;以及令该溶液乾燥。9.根据申请专利范围第8项的方法,其中该基材包括半导体。 |
