| 主权项 |
1.一种基板处理装置,系在基板涂布抗蚀剂,而进行涂布抗蚀剂显影处理之用于照像制版过程,其特征为:具备:将被ON-OFF的主开关的电源;分别从前述电源接受电力之供给时,将进行实质上相同动作的多数之电气机器;分别为了向此等多数的电气机器供电之配电电路;及被连接在该配电电路,而依据有关前述多数的电气机器之使用顺序的资料决定对各电气机器之供电顺序,以控制对前述多数的电气机器之供电时序的控制部,上述控制部,在把上述主开关接通时,对上述各电气机器把开始供电之时序互相错开者。2.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述电气机器,备有用以加热基板的加热器。3.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述电气机器,备有用以冷却基板的冷却器。4.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述电气机器,备有用以供给清净空气于被处理基板的周围之空调机构。5.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中上述电气机器,备有为了调整将基板处理的处理液之温度的调温机构。6.如申请专利范围第1项之基板处理装置,其中更具备各有1个上述电气机器的多数之处理单元,此等多数的处理单元之中,至少2个系有为了把基板加热的加热机构。7.如申请专利范围第6项之基板处理装置,其中上述控制部,将按照上述加热机构的使用顺序向各加热机构供电。8.一种基板处理装置,系在基板涂布抗蚀剂,而进行涂布抗蚀剂显影处理,其特征为具备:将被ON-OFF的主开关之电源;分别接受从前述电源的电力供给,将基板加热或冷却的多数之热处理机构;备有为了使对此等多数的各热处理机构之供电分别开闭的多数多开关的配电电路;分别检出前述热处理机构的各温度之温度检出器;根据由前述温度检出器被检出的检出温度,控制前述开关的离合的控制装置;及使前述主开关闭合而对前述热处理机构开始供电时,规制前述配电电路之各开关成为接通的规制装置者。9.如申请专利范围第8项之基板处理装置,其中上述规制装置,将对上述配电电路的各开关,一面把接通之规制时间性地错开而进行解除。10.如申请专利范围第8项之基板处理装置,其中上述规制装置,将按照上述热处理机构的使用顺序,对上述配电电路之各开关,解除接通的规制。图式简单说明:第一图系显示本发明基板处理装置(涂布显影处理系统)之全体的内部透视平面图。第二图系基板处理装置之正面图。第三图系基板处理装置的背面图。第四图系在基板处理装置所设的加热单元(烘焙单元)之平面图。第五图系加热单元(烘焙单元)的直断面图。第六图系关于本发明的实施形态之基板处理装置的控制电路图。第七图系显示使用关于本发明的实施形态之基板处理装置把基板处理的方法之流程表。第八图系分别显示闸,控制部,电机的各动作之定时表。 |
