发明名称 用以评估配合光学装置使用之光学元件之像差的方法与装置
摘要 一种方法用于评估配含如DVD之光学使用之如光学头的光学元件之像差。在此方法中,光线被传输通过该光学元件且然后被绕射成例如为0,±1,±2,...阶之绕射光线。在其他者之间,第一与第二光线(例如0与+1,0与-1,+1与-1或0与±1阶的被绕射光线)被重叠以形成被该等第一与第二光线所共用之影像。然后,在该被共用影像中之第一与第二的光线强度被侦测。此时,在该等第一与第二点之光线强度被改变。然后,第一与第二点间之光线强度的相位差被决定。在使用该相位差下,该光学元件之像差被决定。
申请公布号 TW475171 申请公布日期 2002.02.01
申请号 TW088112686 申请日期 1999.07.27
申请人 松下电器产业股份有限公司 发明人 高田和政;中城正裕;西井完治
分类号 G11B7/26 主分类号 G11B7/26
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 2.一种用于评估光学元件之像差的方法,包含的步骤为:(a)经由该光学元件传输光线;(b)绕射该光线以获得第一与第二绕射光线;(c)重叠该等第一与第二光线以形成由该等第一与第二光线所共用之影像;(d)决定在该共用影像内之数个点,该些点包括:一第一点其为连接该等第一与第二绕射光线之轴的一第一线之中央点,一第二点其位于一第二线上与该第一线交岔于该第一点,一第三点其位于该第二线上,该等第二与第三点相对于该第一线被对称地定位,第四与第五点其被位于该第二线上且对称地位于该第一线之相反侧上,每一该等第四与第五点与该第一线被相隔一段距离,第六与第七点其被位于该第一线上之相反侧上,每一该等第六与第七点与该第一线被相隔一段距离,(e)侦测该等第一至第五点之光线强度;(f)改变在该共用影像内之该等第一至第五点的光线强度;(g)在每一该等第一至第七点决定该光线强度之相位;以及(h)藉由使用在该等第一至第七点之相位来评估该光学元件之像差。3.如申请专利范围第2项所述之方法,其中该步骤(h)进一步包括之步骤为:决定在该等第一与第二点间之光线强度的一第一相位差ph(1),在该等第二与第三点间之光线强度的一第二相位差ph(2),在该等第四与第五点间之光线强度的一第三相位差ph(3),在该等第六与第七点间之光线强度的一第四相位差ph(4),该步骤(h)进一步包括的步骤为:依据以下列公式获得之相位差来决定一停顿之数値:相位差=│ph(1)│-│ph(2)│/2依据以下列公式获得之相位差来决定该停顿之方向:相位差=│ph(4)│-│ph(3)│。4.一种用于评估光学元件之像差的方法,包含的步骤为:在三个方向导向一绕射光栅;就每一该等三个方向实施下列步骤(a)至(f);(a)经由该光学元件传输至光线;(b)引导该光线至一绕射光栅内以获得第一与第二绕射光线,(c)将该等第一与第二光线重叠以形成被该等第一与第二光线共用之影像,(d)侦测在该共用影像之第一与第二点的光线强度,该等第一与第二点被位于一线,其与连接该等第一与第二绕射光线之中心的另一线之中央点交岔且相对于该另一线而对称,(e)改变该共用影像内之该等第一与第二点的光线强度;(f)决定在该等第一与第二点间之光线强度的一相位差,由在该等三个方向所获得之该相位差来评估该光学元件之一像散性。5.如申请专利范围第4项所述之方法,进一步包括由该等三个方向之二者的该害相位差来决定该像散性之数値。6.一种用于评估光学元件之像差的装置,包含:一反射型式之绕射光栅,该光栅由数条平行的槽沟被形成,使得由该光学元件来之光线被绕射成为绕射光线,该等绕射强度包括第一与第二光线被部分地重叠以形成一共用影像;一机构用于在实质上垂直于该光线之轴的方向移动绕射光栅;一影像接收器用于接收该共用影像;以及一处理器用于在该共用影像之每一数个点决定光线强度之一相位。7.如申请专利范围第6项所述之装置,进一步包括一机构用于对着该光线之一轴转动该绕射光栅。8.如申请专利范围第6项所述之装置,其中在该绕射光栅内之该等槽沟包括数群之槽沟,每一群之槽沟以某一方向被导向,其与另一群槽沟的方向不同。9.一种用于评估光学元件之像差的装置,包含:一传输型式之绕射光栅,该光栅由数条平行的缝隙被形成,使得由该光学元件来之光线被绕射成为绕射光线,该等绕射强度包括第一与第二光线被部分地重叠以形成一共用影像;一机构用于在实质上垂直于该光线之轴的方向移动绕射光栅;一影像接收器用于接收该共用影像;以及一处理器用于在该共用影像之每一数个点决定光线强度之一相位。10.如申请专利范围第9项所述之装置,进一步包括一机构用于对着该光线之一轴转动该绕射光栅。11.如申请专利范围第9项所述之装置,其中在该绕射光栅内之该等缝隙包括数群之缝隙,每一群之缝隙以某一方向被导向,其与另一群缝隙的方向不同。12.一种用于评估光学元件之像差的装置,包含:一对之第一与第二传输型式之绕射光栅,每一该等第一与第二光栅被形成有平行的缝隙以绕射光线成为非零阶绕射光线之绕射光线,该等第一与第二绕射光栅被定位成彼此平行;而以该等缝隙在一方向被导向以形成一共用影像,其中二绕射影像被部分地重叠;一机构用于在另一方向移动该第一绕射光栅,其与该一方向形成某一角度;一影像接收器用于接收该共用影像;以及一处理器用于在该共用影像之每一该等数个点决定光线强度之一相位。13.一种用于校正光学元件之像差的装置,包含:一反射型式之绕射光栅,该光栅被形成有数条平行的槽沟,使得由该光学元件来之光线被绕射成为绕射光线,该等绕射光线包括第一与第二光线被部分地重叠以形成一共用影像;一机构用于在实质垂直于该光线之轴的方向移动该绕射光栅;一影像接收器用于接收该共用影像;一处理器用于在该共用影像之每一该等数个点决定光线强度之一相位且然后评估该光学元件之该像差;以及一机构用于修正该光学元件之该像差。14.一种用于评估光学元件之像差的装置,包含:一传输型式之绕射光栅,该光栅被形成有数条平行的缝隙,使得由该光学元件来之光线被绕射成为绕射光线,该等绕射光线包括第一与第二光线被部分地重叠以形成一共用影像;一机构用于在实质垂直于该光线之轴的方向移动该绕射光栅;一影像接收器用于接收该共用影像;一处理器用于在该共用影像之每一该等数个点决定光线强度之一相位且然后评估该光学元件之该像差;以及一机构用于修正该光学元件之该像差。图式简单说明:第1图显示一系统用于评估依据本发明之第一实施例的一光学元件之像差;第2图显示二绕射光线之共用影像与在共用区内被设定之点用于决定该光学元件之一停顿;第3A至3C图显示二绕射光线之共用影像与在共用区内被设定之点用于决定该光学元件之一像散性;第4A至4C图显示被解除聚焦所造成之波峰;第5A至5C图显示被一球形像差所造成之波峰;第6A至6C图显示被该停顿所造成之波峰;第7A至7C图显示被该像散性所造成之波峰;第8图显示另一系统用于评估依据本发明之另一实施例的该光学元件之像差;第9图显示另一系统用于评估依据本发明之光学元件的像差;第10图显示一光栅板,其包括三个不同的光栅;第11图显示另一系统用于评估依据本发明之光学元件的像差;第12图显示另一系统用于评估依据本发明之光学元件的像差;第13图显示另一系统用于评估依据本发明之光学元件的像差;第14图显示另一系统用于评估依据本发明之光学元件的像差;第15图显示一系统用于评估与校正依据本发明之光学元件的像差;第16图显示另一系统用于评估与校正依据本发明之光学元件的像差;第17图显示另一系统用于评估与校正依据本发明之光学元件的像差;第18图显示另一系统用于评估与校正依据本发明之光学元件的像差;第19图为一惯用系统用于评估光学元件之像差;以及第20图为另一惯用系统用于评估光学元件之像差。
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