发明名称 SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
摘要 <p>과전류 이상 뿐만 아니라 과전압 이상 등 폭넓은 이상을 검지한다. IGBT의 n층(3)에는 매립 게이트 전극(7)과 마찬가지 구조의 매립 센스 전극(8)이 센스 산화막(10)을 사이에 끼워 매설되어 있다. 매립 센스 전극(8)은 n층(3)의 전위를 검지한다. 매립 센스 전극(8)이 검지하는 전위가 n드레인 영역(22), p웰 영역(23) 및 n소스 영역(24)을 갖는 MOSFET(21)의 게이트 임계 전압을 초과할 정도로 높게 되면, MOSFET(21)가 온한다. 이때, IGBT의 게이트 전극(13)과 이미터 전극(11) 사이에 인가되는 게이트 전압은 MOSFET(21)의 온 전압, n캐소드 영역(17)과 p애노드 영역(18)을 갖는 제너 다이오드(16)의 항복 전압 및 p애노드 영역(18)과 n캐소드 영역(20)을 갖는 다이오드(19)의 순방향 전압의 합으로 주어지는 값으로 인하된다.</p>
申请公布号 KR100323008(B1) 申请公布日期 2002.02.02
申请号 KR19990000446 申请日期 1999.01.11
申请人 null, null 发明人 다까하시데쯔오
分类号 H01L29/78;H01L21/331;H01L23/544;H01L27/02;H01L27/04;H01L27/06;H01L29/739 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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