| 主权项 |
1.一种改良之热固性深紫外线抗反射组成物,其包括a.一高分子量丙烯酸聚合物或共聚物与一深紫外线吸光羧酸或酚型染料之反应产物,该反应产物具有在羧酸染料之情形中经由羟基酯基团或在酚型染料之情形经由羟基醚基团键联至羧酸或酚型染料之聚合物或共聚物,该基团于该反应期间内就地形成;b.一烷基化氨基塑料交联剂,其系选自包括蜜胺、尿素、苯胍胺、甘及其衍生物;c.一用于硬化之质子性酸仅化剂;以及d.一低至中沸点,即70至80℃,之含醇溶剂系统,包括至少20%的醇;藉此,该组成物具有改良之电浆蚀刻速率,同时保持快的硬化速度,高光学密度,安全挥发性溶剂中之良好溶解度与可涂布性,该溶剂随光阻剂而有极差异之溶解度,及具有改良的一致性与外观覆盖性。2.根据申请专利范围第1项之组成物,其中该羟基酯或羟基醚基团系衍生自该染料与一包含于该丙烯酸聚合物或共聚物中之甲基丙烯酸缩水甘油酯单元之反应。3.根据申请专利范围第2项之组成物,其中该包含甲基丙烯酸缩水甘油酯之丙烯酸聚合物或共聚物具有5,000到30,000克/莫耳范围内之数目平均分子量(Mn),以及20,000到100,000克/莫耳范围内之重量平均分子量(Mw)。4.根据申请寻利范围第2项之组成物,其中该包含甲基丙烯酸缩水甘油酯之丙烯酸聚合物或共聚物具有10,000到20,000克/莫耳之Mn,以及30,000到70,000克/莫耳之Mw。5.根据申请专利范围第2项之组成物,其中该丙烯酸聚合物为甲基丙烯酸缩水甘油酯之均聚物,或甲基丙烯酸缩水甘油酯与选自包括甲基丙烯酸2-羟基乙基酯、甲基丙烯酸羟基内基酯、甲基丙烯酸甲酯以及甲基丙烯酸2-氯乙基酯之共单体的共聚物。6.根据申请专利范围第2项之组成物,其中该丙烯酸聚合物为甲基丙烯酸缩水甘油酯之均聚物,或甲基丙烯酸缩水甘油酯与选自包括甲基丙烯酸2-羟基乙基酯及甲基丙烯酸羟基丙基酯之共单体的共聚物。7.根据申请专利范围第5项之组成物,包括具有至少20莫耳百分比之甲基丙烯酸缩水甘油酯共单体之甲基丙烯酸缩水甘油酯共聚物,以增进光学密度。8.根据申请专利范围第7项之组成物,具有30莫耳百分比之甲基丙烯酸缩水甘油酯。9.根据申请专利范围第1项之组成物,具有少于400克/当量之聚合物或共聚物羟基之当量重量,以得致改良之交联密度。10.根据申请专利范围第1项之组成物,其中该深紫外线吸光染料具有足够的本质吸收率,且其存在之浓度可使于248nm暴光波长下有每微米膜厚度至少7.0之光学密度。11.根据申请专利范围第10项之组成物,具有于248nm暴光波长下每微米膜厚度>9.0之光学密度可用于进行次0.30微米之光微影技术。12.根据申请专利范围第10项之组成物,具有选自包括9-羧酸、2-酚型羧酸、9-啶羧酸以及对-茴香酸之羧酸染料。13.根据申请专利范围第10项之组成物,其中该羧酸染料系9-羧酸。14.根据申请专利范围第8项之组成物,具有选自包括4-羟基联苯、2-羟基哪啶、5,7-二氯-8-羟基以及2-乙醯氧基酚之酚型染料。15.根据申请专利范围第1项之组成物,具有一强质子酸,其具有大于80克/莫耳之式量,以防止热硬化期间之昇华。16.根据申请专利范围第14项之组成物,其中该质子酸系选自包括对-甲苯磺酸、十二烷基苯磺酸、草酸、酸、以及磺酸。17.根据申请专利范围第2项之组成物,其中该氨基塑料硬化剂与选自包括酚醛树脂(novolac)与聚(4-羟基苯乙烯)之聚酚一起存在,该聚酚系用以藉由与该附有染料丙烯酸聚合物或共聚物上之自由缩水甘油基位置反应而进行热交联。18.根据申请专利范围第1项之组成物,其中该氨基塑料之反应当量与该丙烯酸聚合物或共聚物羟基基团之重量比由0.20至2.00,而以氨基塑料重量为基础之酸催化剂重量百分比范围由5至20个重量百分比,而涂料中之总固体重量百分比范围为2.5至10.0%。19.根据申请专利范围第1项之组成物,其中其对酚醛树脂与以聚(羟基苯乙烯)为基材之光阻剂之蚀刻选择性,在电浆蚀刻条件下大于1.0,其中使用氧化、氟化或氯化之气体或其混合物以产生该活性蚀刻物种。图式简单说明:图1为一含甲基丙烯酸缩水甘油酯之丙烯酸共聚物与一代表性羧酸染料及一代表性酚型染料之反应程序示意图。图2为一显示习知技艺与新抗反射涂层组成物之平面化特性随渐增基板外观纵横比(aspect ratio)变化之图。 |
