| 主权项 |
1.一种绕射光栅,用于光通讯系统中多工化及解多工化光讯号,绕射光栅包括多个形成于基板中的沟槽,每一沟槽均包括用于反射入射光之反射表面及不反射入射光之非反射表面,非反射表面系非导体的。2.如申请专利范围第1项之绕射光栅,其中反射表面及非反射表面具有反射介电涂层。3.如申请专利范围第1项之绕射光栅,其中反射表面及非反射表面具有多层介电涂层。4.如申请专利范围第1项之绕射光栅,其中反射表面具有反射涂层且非反射表面不具有反射涂层。5.如申请专利范围第4项之绕射光栅,其中反射涂层系导电的。6.如申请专利范围第4项之绕射光栅,其中反射涂层系金属。7.如申请专利范围第4项之绕射光栅,其中反射涂层包括黄金。8.如申请专利范围第4项之绕射光栅,其中反射涂层系非导体。9.如申请专利范围第4项之绕射光栅,其中反射涂层系介电质。10.如申请专利范围第4项之绕射光栅,其中反射涂层系多层介电质。11.如申请专利范围第4项之绕射光栅,其中反射涂层系选自下述组合之多层介电质:叠层的二氧化钛及二氧化矽、叠层的五氧化钽及二氧化矽或叠层的二氧化铪及二氧化矽。12.如申请专利范围第1项之绕射光栅,其中每一沟槽均包括反射步阶表面及与反射步阶表面成横向之非反射上升部表面,非反射上升部表面位于相邻沟槽的反射步阶表面之间。13.一种制造反射绕射光栅之方法,该反射绕射光栅用于在光通讯系统中绕射光讯号,该方法包括:a)在基板中形成多个平行的沟槽,平行沟槽包括步阶及上升部;及b)在步阶上但不在上升部上,设置反射涂层。14.如申请专利范围第13项之方法,其中以离子束溅射执行步骤b)。15.如申请专利范围第13项之方法,其中,首先,以反射涂层涂着步阶及上升部,接着蚀刻上升部之涂层,以执行步骤(b)。16.如申请专利范围第13项之方法,其中反射涂层包括导电的反射涂层。17.如申请专利范围第13项之方法,其中反射涂层是介电质。18.一种绕射光栅,用于光通讯系统中多工化及解多工化光讯号,绕射光栅包括多个形成于基板中的沟槽,每一沟槽均具有沟槽表面,沟槽表面包含反射步阶表面,反射步阶表面具有反射涂层,且沟槽表面的其余部份未具有反射涂层。19.如申请专利范围第18项之绕射光栅,其中每一沟槽表面又包括位于相邻沟槽的反射步阶表面之间的横向上升部。20.如申请专利范围第18项之绕射光栅,其中反射涂层包括导电涂层。21.如申请专利范围第18项之绕射光栅,其中反射涂层系金属。22.如申请专利范围第18项之绕射光栅,其中反射涂层包括黄金。23.如申请专利范围第18项之绕射光栅,其中反射涂层系非导体。24.如申请专利范围第18项之绕射光栅,其中反射涂层系介电质。25.如申请专利范围第18项之绕射光栅,其中反射涂层系多层介电质。26.如申请专利范围第18项之绕射光栅,其中反射涂层系选自下述组合之多层介电质:叠层的二氧化钛及二氧化矽、叠层的五氧化钽及二氧化矽或叠层的二氧化铪及二氧化矽。27.一种绕射光栅,用于光通讯系统中多工化及解多工化光讯号,绕射光栅包括多个形成于基板中的沟槽,每一沟槽均具有平面的反射步阶表面及与反射的步阶表面成横向之上升部,上升部位于相邻沟槽的反射步阶表面之间,反射步阶表面具有反射涂层,而上升部未具有反射涂层。28.如申请专利范围第27项之绕射光栅,其中反射涂层系金属。29.如申请专利范围第27项之绕射光栅,其中反射涂层系介电质。30.一种制造反射绕射光栅之方法,该反射绕射光栅用于在光通讯系统中绕射光讯号,该方法包括:a)在基板中形成多个沟槽,沟槽具有用于反射入射光之反射表面及不反射入射光之非反射表面;及b)将非导体反射涂层施加至反射表面。31.如申请专利范围第30项之方法,其中步骤b)又包括未施加非导体反射涂层至非反射表面。32.如申请专利范围第30项之方法,其中在步骤b)中,非导体反射涂层包括介电质。33.如申请专利范围第30项之方法,其中在步骤b)中,非导体反射涂层包括多层介电质。34.如申请专利范围第30项之方法,又包括:c)施加非导体反射涂层至非反射表面。图式简单说明:图1系习知绕射光栅的沟槽图案轮廓;图2系代表图1的光栅步阶的反射表面折射之s极化及p极化光的场强度为离上升部的距离之函数;图3系根据本发明之具有导体反射涂层的步阶之图1的绕射光栅之沟槽图案的轮廓;图4系在光栅的整个表面上具有反射涂层之举例说明的绕射光栅之沟槽图案的轮廓;图5系根据本发明之在上升部上未具有反射涂层的图4之绕射光栅的沟槽图案之轮廓;图6系随着图4的光栅之折射的光讯号的TM及TE分量之选取频宽内的波长函数而变之绕射效率的图形;及图7系类似于图6之图形,显示图5之上升部上未具有反射涂层的效果。 |
