| 摘要 |
三种制备多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)的方法,该方法利用碱的作用,该碱能够进攻硅原子或任何能够与质子溶剂(如ROH、H<SUB>2</SUB>O等)反应并且产生氢氧化物[OH]<SUP>－</SUP>、醇盐[RO]<SUP>－</SUP>等的化合物。第一种方法利用这些碱而有效地将聚合的倍半硅氧烷[RSiO<SUB>1.5</SUB>]<SUB>∞</SUB>中的硅－氧骨架结构再分布从而成为POSS纳米结构,即式[(RSiO<SUB>1.5</SUB>)<SUB>n</SUB>]<SUB>∑#</SUB>所示的均片段(homoleptic)、[(RXSiO<SUB>1.5</SUB>)<SUB>n</SUB>]<SUB>∑#</SUB>所示的官能化均片段、[(RSiO<SUB>1.5</SUB>)<SUB>m</SUB>(R’SiO<SUB>1.5</SUB>)<SUB>n</SUB>]<SUB>∑#</SUB>所示的杂片段(heteroleptic)以及{(RSiO<SUB>1.5</SUB>)<SUB>m</SUB>(RXSiO<SUB>1.0</SUB>)<SUB>n</SUB>}<SUB>∑#</SUB>所示的官能化杂片段纳米结构,其中∞=1－1,000,000或更高。第二种方法利用碱以帮助由硅烷RSiX<SUB>3</SUB>和直链或环状的式RX<SUB>2</SUB>Si－(OSiRX)<SUB>m</SUB>－OSiRX<SUB>2</SUB>所示的倍半硅氧烷而形成POSS纳米结构,即式[(RSiO<SUB>1.5</SUB>)<SUB>n</SUB>]<SUB>∑#</SUB>,所示均片段和[(RSiO<SUB>1.5</SUB>)<SUB>m</SUB>(R’SiO<SUB>1.5</SUB>)<SUB>n</SUB>]<SUB>∑#</SUB>所示杂片段以及[(RSiO<SUB>1.5</SUB>)<SUB>m</SUB>(RXSiO<SUB>1.0</SUB>)<SUB>n</SUB>]<SUB>∑#</SUB>所示官能化杂片段纳米结构,其中,m=0－10,X=OH、Cl、Br、I、醇盐OR、醋酸酯OOCR、过氧化物OOR、胺NR<SUB>2</SUB>、异氰酸酯NCO和R。第三种方法利用碱以选择性打开POSS结构中的硅－氧－硅(Si－O－Si)键从而形成带有不完全缩合纳米结构的POSS物种。这些方法还能提供对X的立体化学控制。该三种方法可产生新的POSS物种,该新的POSS物种经过另外的化学控制能够最终转变为适用于聚合、接枝或其他所希望化学反应的POSS物种。 |
