| 主权项 |
1.一种有机平面发光装置制造方法,包含下列步骤:提供一透明基板,该透明基板之第一表面上具有复数个类微镜,每一类微镜之端缘至该第一表面最大距离为约100m;于相对于该第一表面之该透明基板之第二表面上形成一透明阳极;于该透明阳极上形成一有机电激发光层;及于该有机电激发光层上形成一金属阴极。2.如申请专利范围第1项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该透明基板为一塑胶基板。3.如申请专利范围第1项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该透明基板为一柔性基板。4.如申请专利范围第1项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该透明基板系以射出成型法形成。5.如申请专利范围第1项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该透明基板系以热压成型法形成。6.如申请专利范围第1项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该透明基板之厚度为约0.2mm到约5mm。7.如申请专利范围第1项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该类微镜系具有曲度的表面。8.如申请专利范围第7项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该具有曲度的表面系呈部份球形状,该球形状之直径为约10m至约500m。9.如申请专利范围第7项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该具有曲度的表面系呈部份柱形状,该柱形状之直径为约10m至约500m,该柱形状之长度为约10m至约500m。10.如申请专利范围第7项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该具有曲度的表面系为呈正多边形周围的凸曲面状,该凸曲面状之边长为约10m至约500m。11.如申请专利范围第1项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该透明阳极系为一导电之金属氧化物阳极。12.如申请专利范围第1项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该透明阳极之厚度为约500以上。13.如申请专利范围第1项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该有机电激发光层之厚度为约500至约3000。14.如申请专利范围第1项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该金属阴极的厚度为约500到约5000。15.一种有机平面发光装置制造方法,包含下列步骤:将一透明薄膜着设于一透明基板之第一表面上,该透明薄膜系具有复数个类微镜,每一类微镜之端缘至该第一表面之最大距离为约100m;于相对于该第一表面之该透明基板之第二表面形成一透明阳极;于该透明阳极上形成一有机电激发光层;及于该有机电激发光层上形成设置一金属阴极。16.如申请专利范围第15项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该透明基板为一塑胶基板。17.如申请专利范围第15项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该透明基板为一柔性基板。18.如申请专利范围第15项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该透明基板为一玻璃基板。19.如申请专利范围第I5项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该透明基板之厚度为约0.2mm到约5mm。20.如申请专利范围第15项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该透明薄膜系以黏着法形成于该第一表面上。21.如申请专利范围第15项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该类微镜系具有曲度的表面。22.如申请专利范围第21项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该具有曲度的表面系呈部份球形状,该球形状之直径为约10m至约500m。23.如申请专利范围第21项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该具有曲度的表面系呈部份柱形状,该柱形状之直径为约10m至约500m,该柱形状之长度为约10m至约500m。24.如申请专利范围第21项所述之有机平面发光装置制造方法,其中该具有曲度的表面系为呈正多边形周围的凸曲面状,该凸曲面状之边长为约10m至约500m。图式简单说明:图1系习知之有机平面发光装置的示意图。图2系本实施例之有机平面发光装置制造方法的示意图。图3系本发明之步骤S01的示意图。图4A至图4C系本发明之类微镜的示意图。图5系本发明之步骤S02的示意图。图6系本发明之步骤S03的示意图。图7系本发明之步骤S04的示意图。图8系本发明另一实施例之有机平面发光装置制造方法的示意图。图9系本发明另一实施例之步骤S11的示意图。 |
