| 主权项 |
1.一种曝光装置,具有:射出光之单一之光源;使用根据来自前述光源之照明光,进行曝光处理之多数之曝光处理部;具有将前述光源与前述各曝光处理部作光学连接之多数光路之送光装置;及对应于前述各曝光处理部而分别设置且将前述光源之光放大之多数之放大装置。2.如申专利范围第1项所述之曝光装置,其中,前述光源系雷射光源。3.如申专利范围第2项所述之曝光装置,其中,前述放大装置系注入同步型之准分子雷射放大器。4.如申专利范围第1项所述之曝光装置,其中,前述光源系射出与前述各曝光处理部于曝光处理所使用之照明光波长相同波长之光。5.如申专利范围第1项所述之曝光装置,其更具备:前述光源系射出与前述各曝光处理部于曝光处理所使用之照明光波长相异波长之光,设置分别对应于前述各曝光处理部,并将来自前述光源之光变换为前述曝光处理部所使用之照明光波长之多数之波长变换装置。6.如申专利范围第1项所述之曝光装置,其中,前述送光装置包含将来自前述光源之光分配至前述各放大装置之分配装置。7.如申专利范围第1项所述之曝光装置,其中,前述送光装置包含将来自前述光源之光选择性地送至前述各放大装置中任何一个之光路切换装置。8.如申专利范围第1项所述之曝光装置,其中,前述送光装置包含光纤电缆。9.如申专利范围第1项所述之曝光装置,其中,使前述放大装置设于接近前述各曝光处理部所具备之照明光学系统。10.一种元件制造方法,其特征系:使用申请专利范围第1项之曝光装置来制造元件之方法。11.一种曝光装置,具有:包含射出光之光源、使用根据来自前述光源之照明光进行曝光处理之第1曝光处理部、具有将前述光源与前述第1曝光处理部作光学连接之第1光路之第1送光装置、及将设于前述第1光路中之前述光源之光放大之第1放大装置,之主装置;及将设于前述第1光路中之光加以分歧之分歧装置,可将包含使用根据来自前述光源之照明光进行曝光处理之第2曝光处理部、具有将前述分歧装置与前述第2曝光处理部作光学连接之第2光路之第2送光装置、及将设于前述第2光路中之前述光源之光放大之第2放大装置,之至少一台副装置,以追加方式增设。12.一种照明装置,具有:射出光之单一之光源;具有传送前述光源之光之多数光路之送光装置;及对应于前述多数光路而分别设置且将前述光源之光放大之多数之放大装置。图式简单说明:图1系表示本发明之第1实施形态之曝光系统之构成图。图2系表示本发明之第1实施形态之曝光处理部之构成图。图3系表示本发明之第1实施形态之光源之构成图。图4系表示本发明之第1实施形态之放大装置之构成图。图5系表示本发明之第1实施形态之放大装置之另一构成图。图6系表示本发明之第1实施形态之放大装置之另一构成图。图7系表示本发明之第2实施形态之曝光系统之构成图。图8系表示本发明之第3实施形态之曝光系统之构成图。图9系表示本发明之第3实施形态之要部构成图。图10系表示本发明之第4实施形态之曝光系统之构成图。图11系表示本发明之第4实施形态之要部构成图。图12系表示本发明之第5实施形态之曝光系统之构成图。图13系表示本发明之第6实施形态之曝光系统之构成图。图14系表示雷射光之光谱特性图。图15系表示雷射光之光谱特性图。图16系表示习知技术之曝光系统之构成图。 |
