发明名称 成像装置
摘要 一种成像装置,包括一凸形面镜,供反射代表一物体之第一入射光,该凸形面镜具有一回转体形状;一成像机构,供取得一由凸形面镜反射之光所代表之一反射影像;及一光学构件,供导引第一入射光趋向凸形面镜及导引反射光趋向成像机构,光学构件具有一衰减段,可供衰减以一相对立于第一入射光之方向入射至光学构件之一外周侧表面上的第二入射光,第二入射光通过光学构件,且由光学构件之一内周侧表面反射,以利导向凸形旋转面镜,且重叠于第一入射光。
申请公布号 TW525036 申请公布日期 2003.03.21
申请号 TW091102152 申请日期 2002.02.07
申请人 夏普股份有限公司 发明人 栗山 昭彦;永广雅之;熊田 清
分类号 G03B37/00 主分类号 G03B37/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种成像装置,包含:一凸形面镜,供反射代表一物体之第一入射光,该凸形面镜具有一回转体形状;一成像机构,供取得一由凸形面镜反射之光所代表之一反射影像;及一光学构件,供导引第一入射光趋向凸形面镜及导引反射光趋向成像机构,该光学构件具有一衰减段,可供衰减以一相对立于第一入射光之方向入射至光学构件之一外周侧表面上的第二入射光,第二入射光通过光学构件,且由光学构件之一内周侧表面反射,以利导向凸形旋转面镜,且重叠于第一入射光。2.如申请专利范围第1项之成像装置,其中衰减段系一设于光学构件内之孔,且孔含有一空气层于其内,系具有一不同于光学构件者之光传输率,使第二入射光系因通过孔而衰减。3.如申请专利范围第2项之成像装置,其中该孔系成型以不阻碍到由凸形旋转面镜提供之视角。4.如申请专利范围第2项之成像装置,其中该孔系成型为一回转体且以凸形旋转面镜之一旋转轴线为中心。5.如申请专利范围第4项之成像装置,其中该孔系呈筒形。6.如申请专利范围第4项之成像装置,其中该孔系呈锥形。7.如申请专利范围第2项之成像装置,其中该孔具有一结霜状表面,供衰减第二入射光。8.如申请专利范围第2项之成像装置,进一步包含一电线,系用于供给电力及一信号至成像机构,该电线通过该孔且连接于成像机构。9.如申请专利范围第2项之成像装置,其中该孔系经栓入以将成像装置接附于一外部构件。10.一种成像装置,包含:一凸形面镜,供反射代表一物体之第一入射光,该凸形面镜具有一回转体形状;一成像机构,供取得一由凸形面镜反射之光所代表之一反射影像;及一光学构件,供导引第一入射光趋向凸形面镜及导引反射光趋向成像机构,该光学构件具有一光遮蔽段,可供遮蔽以一相对立于第一入射光之方向入射至光学构件之一外周侧表面上的第二入射光,且第二入射光通过光学构件而趋向光学构件之一内周侧表面。11.如申请专利范围第10项之成像装置,其中该光遮蔽段系一设于光学构件内之孔,且该成像装置进一步包含一光遮蔽薄膜以遮蔽第二入射光。图式简单说明:图1系一投影图,说明本发明第一实例之一成像装置之简示结构;图2系图1所示成像装置之截面图;图3系供说明图1所示成像装置之光学构件内之一孔之较佳形状之视图;图4系一投影图,说明本发明第二实例之一成像装置之简示结构;图5系图4所示成像装置之截面图;图6系一截面图,说明本发明第三实例之一成像装置结构;图7系一截面图,说明本发明第四实例之一成像装置结构;图8系一截面图,说明本发明第五实例之一成像装置结构;及图9系一投影图,说明一习知成像装置之简示结构。
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