| 主权项 |
1.一种环状缩醛化合物,其系为下记式(i)所示者;(式中,k为0或1,n为满足0≦n≦6之整数)。2.如申请专利范围第1项之环状缩醛化合物,其系为下记式(ii)所示者;3.一种环状缩醛化合物混合物,其系由下记式(i)所示之5员环缩醛与下记式(v)所示6员环缩醛所得者;(式中,k为0或1,n为满足0≦n≦6之整数)。4.如申请专利范围第3项之环状缩醛化合物混合物,其系为下记式(ii)所示之5员环缩醛与下记式(vi)所示6员环缩醛所得者;5.一种重量平均分子量1,000至500,000之高分子化合物,其系含有下记式(1-1)或(1-2)所示重复单位者;(式中,R为氢原子或甲基;k为0或1,n为0至6之整数)。6.如申请专利范围第5项之高分子化合物,其尚含有下记式(1'-1)或(1'-2)所示重复单位者;(式中,R为氢原子或甲基;k为0或1,n为0至6之整数)。7.如申请专利范围第5项之高分子化合物,其中,上记式(1-1)所示重复单位外,尚含有下记式(2-1)所示重复单位者;(式中,k具有与上记相同之意义;R1为氢原子、甲基或CH2CO2R3;R2为氢原子、甲基或CO2R3;R3为碳数1至15之直链状、支链状或环状烷基;R4为酸不稳定基;R5为卤素原子、羟基、碳数1至15之直链状、支链状或环状烷氧基、醯氧基、烷氧羰氧基或烷磺醯氧基、或为碳数2至15之直链状、支链状或环状烷氧烷氧基,其碳原子上之氢原子之一部份或全部可被卤素原子所取代;Z为单键或碳数1至5之直链状、支链状或环状之(h+2)价烃基,为烃基时,其1个以上之伸甲基可被氧取代而形成链状或环状醚基,或同一碳原子上之2个氢原子可被氧取代而形成酮亦可,h为0.1或2)。8.如申请专利范围第5项之高分子化合物,其中,上记式(1-1)所示重复单位外,尚含有下记式(2-1)与(3)所示重复单位者;(式中,k、h、R1至R5具有与上记内容相同之意义)。9.如申请专利范围第5项之高分子化合物,其中,上记式(1-1)所示重复单位外,尚含有下记式(2-1)所示重复单位及/或下记式(4)所示重复单位,或再含有下记式(3)所示重复单位者;(式中,k、h、R1至R5具有与上记内容相同之意义)。10.如申请专利范围第7.8或9项之高分子化合物,其尚含有上记式(1'-1)所示重复单位者。11.如申请专利范围第5项之高分子化合物,其中,上记式(1-2)所示重复单位外,尚含有下记式(2-2)所示重复单位者;(式中,k、h、R1至R5具有与上记内容相同之意义)。12.如申请专利范围第11项之高分子化合物,其尚含有上记式(1'-2)所示重复单位者。13.一种光阻材料,其系含有申请专利范围第5至12项中任一项之高分子化合物者。14.一种图形之形成方法,其系包含将申请专利范围第13项之光阻材料涂布于基板上之步骤与,于加热处理后介由光罩使用高能量线或电子线进行曝光之步骤与,必要时于加热处理后使用显影液进行显影之步骤者。 |
