| 主权项 |
1.一种电磁波遮蔽膜,其特征为具备有:透明基材;导电体,具有上述透明基材上之网状几何花纹;以及接地部,配设于上述导电体之周边区域,且具有导体区域与导体不存在区域。2.如申请专利范围第1项之电磁波遮蔽膜,其中,上述导体区域相对于上述接地部之整体面积的占有率,系设定在30%至99%之范围内。3.如申请专利范围第1项之电磁波遮蔽膜,其中,上述导体区域相对于上述接地部之整体面积的占有率,系设定在60%至99%之范围内。4.如申请专利范围第1项之电磁波遮蔽膜,其中,上述导体区域相对于上述接地部之整体面积的占有率,系设定在65%至97%之范围内。5.如申请专利范围第1至4项中任一项之电磁波遮蔽膜,其中,上述接地部中之导体区域,系由下述(1)至(10)中之任一种花纹、或复数个花纹之组合所形成者;(1)梳子形花纹(2)以预定间隔规则排列的方形状几何花纹(3)锯齿状花纹(4)以预定间隔规则排列的平行四边形花纹(5)梯子形花纹(6)网状几何花纹(7)三角形花纹(8)五角形以上的多角形花纹(9)圆形花纹或椭圆形花纹(10)星形花纹。6.如申请专利范围第1至4项中任一项之电磁波遮蔽膜,其中,上述导电体及上述接地部之导体区域系介有黏接剂而配设于上述透明基材上。7.如申请专利范围第1项之电磁波遮蔽膜,其中,上述导电体之开口率,系设定在50%至98%之范围内。8.如申请专利范围第6项之电磁波遮蔽膜,其中,上述透明基材系透明塑胶,上述导电体及上述接地部之导体区域系金属或合金,上述黏接剂系聚合物系黏接剂。9.如申请专利范围第8项之电磁波遮蔽膜,其中,上述接地部之导体区域的膜厚系3m以上。10.如申请专利范围第8或9项之电磁波遮蔽膜,其中,上述接地部之导体区域的膜厚系40m以下。11.一种电磁波遮蔽装置,其特征为具备有:电磁波遮蔽膜,具有:透明基材;具有上述透明基材上之网状几何花纹的导电体;及配设于上述导电体之周边区域,且具有导体区域与导体不存在区域的接地部;以及上述电磁波遮蔽膜之至少导电体上的保护膜。12.一种电磁波遮蔽装置,其特征为具备有:反射防止膜;上述反射防止膜上之近红外线吸收膜;上述近红外线吸收膜上之第一透明基材;电磁波遮蔽膜,具备有:上述第一透明基材上之第二透明基材;导电体,具有上述第二透明基材上之网状几何花纹;及接地部,配设于上述导电体之周边区域,且具有导体区域与导体不存在区域;以及上述电磁波遮蔽膜之至少导电体上的保护膜。13.如申请专利范围第11或12项之电磁波遮蔽装置,其中,上述导体区域相对于上述电磁波遮蔽膜之接地部之整体面积的占有率,系设定在30%至99%之范围内。14.如申请专利范围第11或12项之电磁波遮蔽装置,其中,上述电磁波遮蔽膜之接地部中之导体区域,系由下述(1)至(10)中之任一种花纹、或复数个花纹之组合所形成者;(1)梳子形花纹(2)以预定间隔规则排列的方形状几何花纹(3)锯齿状花纹(4)以预定间隔规则排列的平行四边形花纹(5)梯子形花纹(6)网状几何花纹(7)三角形花纹(8)五角形以上的多角形花纹(9)圆形花纹或椭圆形花纹(10)星形花纹。15.一种显示装置,其特征为具备有:显示装置模组;以及电磁波遮蔽装置,具有上述显示装置模组上之至少下述(1)及(2),(1)电磁波遮蔽膜,具备有:上述显示装置模组上的透明基材;具有上述透明基材上之网状几何花纹的导电体;及配设于上述导电体之周边区域,且具有导体区域与导体不存在区域的接地部;(2)上述电磁波遮蔽膜之至少导电体上的保护膜。16.一种显示装置,其特征为具备有:显示装置模组;以及电磁波遮蔽装置,具有上述显示装置模组上之至少下述(1)及(5),(1)上述显示装置模组上之反射防止膜;(2)上述反射防止膜上之近红外线吸收膜;(3)上述近红外线吸收膜上之第一透明基材;(4)电磁波遮蔽膜,具备有:上述第一透明基材上的第二透明基材;具有上述第二透明基材上之网状几何花纹的导电体;及配设于上述导电体之周边区域,且具有导体区域与导体不存在区域的接地部;(5)上述电磁波遮蔽膜之至少导电体上的保护膜。17.如申请专利范围第15或16项之显示装置,其中,上述电磁波遮蔽装置,系藉由安装治具而装设在显示装置模组上。18.如申请专利范围第15或16项之显示装置,其中,上述显示装置模组,系电浆显示装置、阴极射线管显示装置、液晶显示装置或电致发光显示装置之模组。图式简单说明:第1图系本发明之实施形态之电磁波遮蔽膜的立体图。第2图系第1图所示之电磁波遮蔽膜之接地部的放大俯视图。第3A图系本发明之实施形态之第一构造之电磁波遮蔽装置的剖视图。第3B图系本发明之实施形态之第二构造之电磁波遮蔽装置的剖视图。第4图系本发明之实施形态之前面板的立体图。第5图系显示本发明之实施形态之电磁波遮蔽膜及安装治具的图。第6图系本发明之实施形态之电磁波遮蔽装置之前面板框体的立体图。第7图系本发明之实施形态之安装治具的立体图。第8图系本发明之实施形态之显示装置的立体图。第9图系本发明之实施形态之电磁波遮蔽膜之第二构造之接地部的放大俯视图。第10图系本发明之实施形态之电磁波遮蔽膜之第三构造之接地部的放大俯视图。第11图系本发明之实施形态之电磁波遮蔽膜之第四构造之接地部的放大俯视图。第12图系本发明之实施形态之电磁波遮蔽膜之第五构造之接地部的放大俯视图。第13图系本发明之实施形态之电磁波遮蔽膜之第六构造之接地部的放大俯视图。第14图系本发明之实施形态之电磁波遮蔽膜之第七构造之接地部的放大俯视图。第15图系本发明之实施形态之电磁波遮蔽膜之第八构造之接地部的放大俯视图。第16图系本发明之实施形态之电磁波遮蔽膜之第九构造之接地部的放大俯视图。第17图系本发明之实施形态之第一实施例之电磁波遮蔽膜之接地部的放大俯视图。第18图系本发明之实施形态之第二实施例之电磁波遮蔽膜之接地部的放大俯视图。第19图系本发明之实施形态之第三实施例之电磁波遮蔽膜之接地部的放大俯视图。第20图系本发明之实施形态之第一比较例之电磁波遮蔽膜之接地部的放大俯视图。第21图系本发明之实施形态之第二比较例之电磁波遮蔽膜之接地部的放大俯视图。第22图系显示本发明之实施形态之电磁波遮蔽膜之特性测定结果的图。 |
