清洁片材及利用该片材清洁基板处理装置之清洁方法

摘要

一种清洁片材，包含：一清洁层；及一经包含聚矽氧之剥离剂处理之保护膜，此保护膜系于清洁层之至少一面上设置为隔离物；其中，当将隔离物自清洁层剥离时，附着至清洁层之聚矽氧之量以聚二甲基矽氧烷计算为0.005克／平方米或以下。