发明名称 | 蚀刻屏框之改良 | ||
摘要 | 本案系一种蚀刻屏框之改良,其包括:一主框,系为围组成屏框之单元,沿着内侧缘部以高度落差形成框缺;一从框,其系与主框为同材质,且尺寸与形状对应于框缺,俾可套置其间者。 | ||
申请公布号 | TW547487 | 申请公布日期 | 2003.08.11 |
申请号 | TW091216842 | 申请日期 | 2002.10.22 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 陈青枫 |
分类号 | C23F1/00 | 主分类号 | C23F1/00 |
代理机构 | 代理人 | 罗炳荣 台北市大安区罗斯福路三段六十五号四楼 | |
主权项 | 1.一种蚀刻屏框之改良,其包括:一主框,系为围组成屏框之单元,沿着内侧缘部以高度落差形成框缺;一从框,其系与主框为同材质,且尺寸与形状对应以框缺,俾可套置其间者。2.如申请专利范围第1项所述之蚀刻屏框之改良,其中之主框系为陶瓷材质者3.如申请专利范围第1项所述之蚀刻屏框之改良,其中之主框与从框得设置可互为连结之构件者。4.如申请专利范围第1项所述之蚀刻屏框之改良,其中之主框系为屏框之四件或两件之一者。5.如申请专利范围第1项所述之蚀刻屏框之改良,其中之可互为连结之构件系为榫、孔者。图式简单说明:图一为蚀刻屏框之俯视图。图二为蚀刻时之断面示意图。图三为习知之屏框受损示意图。图四为本第一实施例之立体分解图。图五为本案第一实施例组立后立体示意图。图六为本案第二实施例之示意图。 | ||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路一号 |