发明名称 碟片匣
摘要 一种碟片匣,包括一阖盖,用以承载碟片之用,一遮蔽器,用以开启或关闭在阖盖中形成之开口以进行碟片之纪录及再生作业,一排放路径系在阖盖之一边出现,以允许气流在碟片旋转时形成,另外,一开,关机制系用以开,关上述之排放路径,因此,在碟片旋转期间,于碟片匣内部产生之气流会经排放路径顺畅地排放至外界,致使由外界物质如粉尘引起之碟片致污物同被减少至相当小的程度。
申请公布号 TW548638 申请公布日期 2003.08.21
申请号 TW090131623 申请日期 2001.12.20
申请人 三星电子股份有限公司 发明人 金光;洪舜教;权海燮;吴瑞泳;朴熙成;黄正皓
分类号 G11B23/02 主分类号 G11B23/02
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路二段一○○号七楼之一;萧锡清 台北市中正区罗斯福路二段一○○号七楼之一
主权项 1.一种碟片匣,包括:一阖盖,用以承载一碟片之用;一遮蔽器,用以开启及关闭,二者择一,形成于该阖盖中之一开口,以进行该碟片之一纪录/再生作业;一排放路径,系被提供于该阖盖之一边,以允许气流在该碟片旋转时形成;以及一开/关机制,用以开/关该排放路径。2.如申请专利范围第1项所述之碟片匣,其中该开/关机制包括:一旋转门构件,系可旋转地设置于该阖盖,用以选择性地开/关该排放路径;以及一弹性构件,系弹性地施压于该旋转门构件以向前关闭该排放路径;其中依据该碟片旋转导致该阖盖内部所产生之气流,可克服该弹性构件之弹力进而旋转该旋转门构件,使气流可经该排放路径被排放。3.如申请专利范围第1项所述之碟片匣,其中该排放路径包括:一吸气孔,系形成于该阖盖内且接近于该碟片;以及一排气孔,连接该吸气孔且面对该阖盖外部;其中该吸气孔的形成相较于该排气孔宽广。4.如申请专利范围第3项所述之碟片匣,其中气流撞击该吸气孔的部分会形成具有一顶端的外形,而直至该排气孔之一路径会在相对于该阖盖内之气流旋转方向上以一曲率弯曲。图式简单说明:第1图绘示的是传统设置于纪录/再生装置之碟片匣透视图;第2A及2B图绘示的是有关开启图1碟片匣之遮蔽器之透视图步骤;第3A及3B图绘示的是依据碟片旋转所产生之有关气流之模拟结果,以及存在于碟片匣之粉尘粒在旋转时刻中所造成之移动路径;第4图绘示的是依据本发明揭露之一碟片匣透视图;第5A及5B图分别绘示的是有关图4之依据碟片旋转所产生之压力分布模拟结果,以及存在于碟片匣之粉尘粒在旋转时刻中所造成之移动路径;第6A及6B图分别绘示的是依据图4所示的碟片匣中之排放路径在修改为第一形状下之速度分布及压力分布之模拟结果;第7A及7B图分别绘示的是依据图4所示的碟片匣中之排放路径在修改为第二形状下之速度分布及压力分布之模拟结果;第8A及8B图分别绘示的是依据图4所示的碟片匣中之排放路径在修改为第三形状下之速度分布及压力分布之模拟结果;以及第9A至9C图分别绘示的是依据图4所示的碟片匣中之排放路径在修改为第四形状下之速度分布、压力分布及粉尘粒移动路径上之模拟结果。
地址 韩国