| 主权项 |
1.一种表面处理装置,其特征为:系具备:生成(形成)电浆于内部且要载置以电浆处理表面之处理对象物的反应容器;及要造成分布于生成于前述反应容器内之前述电浆的空间的点会切(point cusp)磁场之磁板;前述磁板具有配置于成平行且成相对向于前述处理对象物处理面之圆形平面上的复数个磁体,而前述复数个磁体之各自一方的磁极端面配置于在前述圆形平面上且在形成六角形之各格子点之位置,并配置相邻之2个前述磁体的前述磁极端面之磁性形成为相反。2.如申请专利范围第1项之表面处理装置,其中前述六角形为正六角形。3.如申请专利范围第1项之表面处理装置,其中前述六角形系3组之成相对向的一对边为平行,而各组之边长形成相异。4.如申请专利范围第3项之表面处理装置,其中最长之边为最短之边的2倍以下。5.如申请专利范围第1项之表面处理装置,其中以对应于前述六角形之各前述格子点,至少配置2个以上之前述磁体。6.如申请专利范围第1项之表面处理装置,其中予以配置减低磁力之其他磁体于前述圆形平面之最外周区域,以校正单位格子所形成之周期性(反覆性)的无序(紊乱)。7.如申请专利范围第6项之表面处理装置,其中以减短前述其他磁体之长度来减低磁力。8.一种表面处理装置,系具备:生成电浆于内部且要载置以电浆处理表面之处理对象物的反应容器;及要造成分布于生成于前述反应容器内之前述电浆的空间的点会切磁场之磁板,其特征为:前述磁板具有配置于成平行且成相对向于前述处理对象物处理面之圆形平面上的复数个磁体,而前述复数个磁体之各自一方的磁极端面配置于前述圆形平面上且在复数个格子点之各位置,并配置相邻之2个前述磁体的前述磁极端面极性形成相反,又在前述复数个磁体中之配置于前述圆形平面的最外周区域之一部分前述磁体系予以减低其磁力。9.如申请专利范围第8项之表面处理装置,其中前述格子点系形成为正方形的格子点。10.如申请专利范围第8项之表面处理装置,其中配置于前述最外周区域之前述一部分磁体的长度系被予以缩短。11.如申请专利范围第10项之表面处理装置,其中将长度为短之磁体予以安装成其磁极端面与其他之前述磁体的磁极端面形成同一高度之位置。12.如申请专利范围第8项之表面处理装置,其中将在前述格子点之各位置至少配置2个以上之前述磁体。图式简单说明:图1系显示在具备于有关本发明第1实施例之表面处理装置的磁板之磁体排列配设的平面图,图2系显示在有关第1实施例之磁板的磁体排列配设之具体例平面图,图3系磁板之部分侧面图,图4系显示用于对比用之习知磁板的正方形格子构造之磁体排列平面图,图5系显示用于对比有关第1实施例之磁板和习知磁板用的磁场强度分布特性(Y轴方向)之曲线图,图6系显示用于对比有关第1实施例之磁板和习知磁板用的磁场强度分布特性(对角线方向)之曲线图,图7系显示在有关本发明第2实施例之磁板以蜂巢式格子构造的磁体排列配设下之蜂巢式格子的平面图,图8系显示在有关本发明第3实施例之磁板以蜂巢式格子构造的磁体排列配设下之蜂巢式格子的平面图,图9系显示有关本发明第4实施例之磁板的磁体排列配设平面图,图10系依据第4实施例之磁板的部分侧面图,图11系显示依据第4实施例之磁板的变形例之部分侧面图,图12系显示在配备于有关本发明第5实施例之表面处理装置的磁板之磁体排列配设的具体例之平面图,图13系依据第5实施例之磁板的部分侧面图,图14系习知磁板之部分侧面图,图15系显示用于对比有关第5实施例之磁板和习知磁板用的磁场强度分布特性(Y轴方向)之曲线图,图16系显示用于对比有关第5实施例之磁板和习知磁板用的磁场强度分布特性(对角线方向)之曲线图,图17系显示第5实施例之一变形例其磁板的部分侧面图,图18系显示表面处理装置内部之结构的纵向剖面图,而图19系显示使用于习知表面处理装置之磁板的磁体排列配设之平面图。 |
